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@InProceedings{MedeirosMell:2018:EsAdFi,
               author = "Medeiros, F. I. and Mello, Carina Barros",
                title = "Estudo da ades{\~a}o de filmes finos de ouro depositados sobre 
                         alum{\'{\i}}nio por processos de deposi{\c{c}}{\~a}o 
                         f{\'{\i}}sica a partir da fase vapor",
            booktitle = "Anais...",
                 year = "2018",
               editor = "Santos, Walter Abrah{\~a}o dos and Rodrigues, Italo Pinto and 
                         Lima, Jeanne Samara dos Santos and Rodrigues, Aline Castilho and 
                         Mateus, Dairo Antonio Cuellar and Moreira, Herbi J{\'u}nior 
                         Pereira and Barbosa, ivan M{\'a}rcio and Ten{\'o}rio, 
                         Pl{\'{\i}}nio Ivo Gama and Toledo, Rafael Cardoso and Pereira, 
                         Yuri Matheus Dias",
         organization = "Workshop em Engenharia e Tecnologia Espaciais, 9. (WETE)",
            publisher = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
              address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
             keywords = "Magnetron sputtering, Descarga de catodo oco, Sensores 
                         ionosf{\'e}ricos, Filmes Finos de ouro.",
             abstract = "As propriedades mec{\^a}nicas e el{\'e}tricas do 
                         alum{\'{\i}}nio tornam-no boa op{\c{c}}{\~a}o para integrar 
                         sistemas espaciais, por{\'e}m, no ambiente espacial, a 
                         incid{\^e}ncia de radia{\c{c}}{\~a}o e a alta 
                         concentra{\c{c}}{\~a}o de oxig{\^e}nio at{\^o}mico contribuem 
                         para a degrada{\c{c}}{\~a}o superficial de tais componentes, 
                         inviabilizando determinadas aplica{\c{c}}{\~o}es. Sensores 
                         ionosf{\'e}ricos de alum{\'{\i}}nio s{\~a}o dispostos em 
                         regi{\~o}es externas de sat{\'e}lites com o objetivo de coletar 
                         {\'{\i}}ons e el{\'e}trons do plasma ionosf{\'e}rico para 
                         determinar par{\^a}metros como densidade, temperatura e potencial 
                         el{\'e}trico do plasma. Em meio {\`a} degrada{\c{c}}{\~a}o 
                         superficial do alum{\'{\i}}nio no espa{\c{c}}o, o recobrimento 
                         destes sensores com uma camada fina de ouro surge como 
                         op{\c{c}}{\~a}o protetiva contra a severa oxida{\c{c}}{\~a}o 
                         no espa{\c{c}}o. T{\'e}cnicas de deposi{\c{c}}{\~a}o 
                         qu{\'{\i}}mica comumente utilizadas t{\^e}m apresentado falhas 
                         na ades{\~a}o, principalmente nas regi{\~o}es das juntas de 
                         soldagem destes sensores provocando a delamina{\c{c}}{\~a}o dos 
                         filmes. Com o objetivo de maximizar a ades{\~a}o do ouro sobre o 
                         alum{\'{\i}}nio, este trabalho avaliou a ader{\^e}ncia de 
                         filmes depositados por um sistema h{\'{\i}}brido de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o que associa implanta{\c{c}}{\~a}o 
                         i{\^o}nica por imers{\~a}o em plasma, descarga secund{\'a}ria 
                         de catodo oco e pulveriza{\c{c}}{\~a}o cat{\'o}dica (magnetron 
                         sputtering). Neste processo, o magnetron sputtering fornece os 
                         {\'a}tomos pulverizados de ouro para a forma{\c{c}}{\~a}o do 
                         filme. Durante o trajeto de deposi{\c{c}}{\~a}o estes 
                         {\'a}tomos atravessam uma descarga secund{\'a}ria de alta 
                         densidade e participam de um processo colisional ionizante, assim, 
                         parte destes {\'a}tomos s{\~a}o ionizados. Simultaneamente 
                         pulsos de alta tens{\~a}o negativa s{\~a}o aplicados no 
                         substrato para que haja a implanta{\c{c}}{\~a}o destes 
                         {\'{\i}}ons, favorecendo um ancoramento mec{\^a}nico entre 
                         filme e substrato. Para efeito comparativo tamb{\'e}m foram 
                         depositados filmes finos de ouro somente por 
                         pulveriza{\c{c}}{\~a}o cat{\'o}dica e filmes de ouro sobre 
                         intercamadas de cromo. An{\'a}lises de resist{\^e}ncia ao 
                         riscamento por esclerometria e microscopia eletr{\^o}nica de 
                         varredura mostram que os filmes depositados pelo sistema associado 
                         com descarga secund{\'a}ria s{\~a}o mais aderentes se comparado 
                         aos depositados somente por magnetron sputtering e, al{\'e}m 
                         disso, a intercamada de cromo somada {\`a} utiliza{\c{c}}{\~a}o 
                         da descarga secund{\'a}ria aumenta ainda mais a ader{\^e}ncia do 
                         filme.",
  conference-location = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
      conference-year = "15-16 ago. 2018",
                 issn = "2177-3114",
             language = "pt",
         organisation = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
                  ibi = "8JMKD3MGPDW34R/3S2EJFE",
                  url = "http://urlib.net/rep/8JMKD3MGPDW34R/3S2EJFE",
           targetfile = "10 - [Artigo] Fabricio Iusuti de Medeiros.pdf",
                 type = "Ci{\^e}ncia e Tecnologia de Materiais e Controle",
        urlaccessdate = "28 nov. 2020"
}


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