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@MastersThesis{Pereira:2015:ElDiMo,
               author = "Pereira, Carlos Felipe",
                title = "Eletrodos de diamante modificados com cobre por processo 
                         Electroless aplicados na remo{\c{c}}{\~a}o de nitrato utilizando 
                         reator de fluxo",
               school = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
                 year = "2015",
              address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
                month = "2015-04-01",
             keywords = "DDB, eletroqu{\'{\i}}mica, reator de fluxo, cobre, nitrato, BDD, 
                         electrochermical, flow reactor, copper, nitrate.",
             abstract = "Este trabalho apresenta a produ{\c{c}}{\~a}o, 
                         caracteriza{\c{c}}{\~a}o e aplica{\c{c}}{\~a}o de eletrodos de 
                         diamante dopados com boro (DDB) e modificados com cobre a partir 
                         do processo de deposi{\c{c}}{\~a}o via \emph{Electroless}. Este 
                         processo visou aumentar a {\'a}rea condutiva do eletrodo e sua 
                         seletividade na redu{\c{c}}{\~a}o de {\'{\i}}ons nitrato 
                         utilizando reator eletroqu{\'{\i}}mico de fluxo. Os filmes de 
                         diamante foram crescidos sobre substratos de tit{\^a}nio 
                         atrav{\'e}s da t{\'e}cnica de deposi{\c{c}}{\~a}o 
                         qu{\'{\i}}mica a partir da fase vapor 
                         (\${{"}}\$\emph{Chemical Vapor Deposition}\${{"}}\$- CVD) em 
                         um reator assistido por filamento quente em dois n{\'{\i}}veis 
                         de dopagem. A deposi{\c{c}}{\~a}o de Cu sobre os filmes de DDB 
                         foi investigada em fun{\c{c}}{\~a}o dos par{\^a}metros de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o como pH da solu{\c{c}}{\~a}o e tempo de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o bem como a influ{\^e}ncia das etapas de 
                         sensibiliza{\c{c}}{\~a}o e ativa{\c{c}}{\~a}o. Para ambas as 
                         dopagens, os comp{\'o}sitos DDB/Cu apresentaram uma morfologia de 
                         pequenos gr{\~a}os em toda a superf{\'{\i}}cie do DDB, quando o 
                         processo de deposi{\c{c}}{\~a}o foi realizado em pH 12. Em 
                         valores de pH 8 e pH 10 nenhum dep{\'o}sito de Cu foi verificado 
                         para tempos de deposi{\c{c}}{\~a}o de at{\'e} 180 s. Em geral, 
                         a taxa de dep{\'o}sito de Cu aumentou com o aumento do tempo de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o, em ambas as dopagens. Para eletrodos mais 
                         dopados, observou-se maior densidade e melhor uniformidade de 
                         part{\'{\i}}culas de Cu sobre a superf{\'{\i}}cie do filme 
                         comparado com os eletrodos menos dopados. As etapas de 
                         sensibiliza{\c{c}}{\~a}o e ativa{\c{c}}{\~a}o foram essenciais 
                         na deposi{\c{c}}{\~a}o de Cu em ambas as dopagens. Considerando 
                         a redu{\c{c}}{\~a}o de nitrato no reator eletroqu{\'{\i}}mico 
                         de fluxo, os resultados preliminares mostraram maior 
                         efici{\^e}ncia na eletr{\'o}lise de nitrato para fluxos de 300 L 
                         h\$^{-1}\$ quando o DDB foi utilizado tanto no c{\'a}todo como 
                         no {\^a}nodo, simultaneamente. Isto pode estar relacionado {\`a} 
                         menor adsor{\c{c}}{\~a}o de impurezas sobre o filme devido ao 
                         regime turbulento do reator. De outra forma, quando se utilizou 
                         DDB/Cu na regi{\~a}o cat{\'o}dica uma maior efici{\^e}ncia na 
                         eletr{\'o}lise foi obtida para o fluxo de 50 L h\$^{-1}\$, o 
                         que pode estar associado ao menor processo de adsor{\c{c}}{\~a}o 
                         de hidrog{\^e}nio no eletrodo promovido pelo Cu. ABSTRACT: This 
                         work shows the production, the characterization, and the 
                         application of boron doped diamond (BDD) electrodes modified with 
                         copper by using the \emph{Electroless} deposition. This process 
                         aimed to increase the BDD conductive area as well as its 
                         selectivity in the nitrate ions reduction using the flow 
                         electrochemical reactor. Diamond films were grown on titanium 
                         subtractive by Chemical Vapor Deposition (CVD) technique using an 
                         hot filament assisted reactor using two doping levels. The cu 
                         deposition on BDD films was investigated as function of the 
                         parameters as the solution pH and the deposition time in addition 
                         to the influence of sensitization and activation steps in the 
                         process efficiency. For both doping levels, the BDD/Cu composites 
                         presented the morphologies composed by small grains in the entire 
                         BDD surface, for deposition process made at pH 12. On the other 
                         hand, no Cu deposits were observed at pH 8 and Ph 10 for 
                         deposition times up to 180 s. In general, the Cu deposition rate 
                         increased with the deposition time increase for both doping 
                         levels. A higher deposit density as well as a better Cu particles 
                         uniformity were observed for higher doped electrodes in comparison 
                         to those for the lower doped electrodes. Considering the nitrate 
                         reduction using the flow electrochemical reactor, the preliminary 
                         results showed the highest electrolysis efficiency for flow rates 
                         of 300 L h\$^{-1}\$ when BDD electrodes were used in both as 
                         anode and as cathode simultaneously. This behavior may be 
                         associated to the lower impurity adsorption on the film surface 
                         due to the turbulent flow reactor. Otherwise, when BDD/Cu was used 
                         as cathode, the best efficiency was obtained for flow rate of 50 L 
                         h\$^{-1}\$, which may be associated to the low hydrogen 
                         adsorption on the electrode surface due to the Cu presence.",
            committee = "Ferreira, Neidenei Gomes (presidente/orientador) and Couto, 
                         Andr{\'e}a Boldarini (orientadora) and Baldan, Maur{\'{\i}}cio 
                         Ribeiro and Corr{\^e}a, Washington Luiz Alves",
           copyholder = "SID/SCD",
         englishtitle = "Diamond electrodes modified by electroless copper applied in the 
                         degradation of nitrate in flow electrochermical reactor.",
             language = "pt",
                pages = "114",
                  ibi = "8JMKD3MGP3W34P/3JC6DJ8",
                  url = "http://urlib.net/rep/8JMKD3MGP3W34P/3JC6DJ8",
           targetfile = "publicacao.pdf",
        urlaccessdate = "05 dez. 2020"
}


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