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CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVÃO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30, p. 305701, July 2016. DOI: <10.1088/0957-4484/27/30/305701>. Disponível em: <http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/27/30/305701>.

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... como proposto por Chiappim et al. (2016).
... pode ser encontrada na literatura (CHIAPPIM et al., 2016).



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