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Data e hora local de busca: 23/11/2020 17:36.
Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode
Chiappim, W.; Testoni, G. E.; Doria, A. C. O. C.; Pessoa, R. S.; Fraga, M. A.; Galvão, N. K. A. M.; Grigorov, K. G.; Vieira, L.; Maciel, H. S.

Artigo em Revista Científica - Qualis: 10.0 - 2016 - Acesso restrito - Como citar? - BibTeX - acessar - Atualizar - Similaridade: 1.00
 
  

Plasma-assisted atomic layer deposition of TiO2 thin films: effect of direct plasma exposure during deposition on film structure and morphology
Chiappim, W.; Testoni, G. E.; Pessoa, R. S.; Fraga, M. A.; Maciel, H. S.
Artigo em Evento - sem Qualis - 2016 - Como citar? - BibTeX - Atualizar - Similaridade: 0.37
 
  

Structural and morphological characterization of DLC films deposited by Plasma Immersion Ion Implantation and deposition (PIII&D) with magnetic field inside tubes
Mariano, S. F. M.; Ueda, M.; Oliveira, R. M.

Artigo em Evento - sem Qualis - 2017 - Como citar? - BibTeX - acessar - Atualizar - Similaridade: 0.16