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Data e hora local de busca: 24/02/2021 21:00.
Área de identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Evento (Conference Proceedings)
Siteplutao.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP3W/3FCL894
Repositóriosid.inpe.br/plutao/2013/12.12.16.12.29
Última Atualização2014:01.17.10.42.34 administrator
Metadadossid.inpe.br/plutao/2013/12.12.16.12.30
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.23.39.18 administrator
ISBN978-1-4799-0516-4
Rótulolattes: 5076862030728693 6 LibardiKRGUSiMaMaMa:2013:StElPe
Chave de CitaçãoLibardiKoGuSiMaMaMa:2013:StElPe
TítuloHigh quality TiO2 deposited by reactive sputtering. Structural and electrical peculiarities influenced by the specific experimental conditions
Ano2013
Data de Acesso24 fev. 2021
Número de Arquivos1
Tamanho732 KiB
Área de contextualização
Autor1 Libardi, Juliano
2 Kornelly, Grigorov
3 Guerino, M.
4 Silva Sobrinho, Argemiro Soares da
5 Maciel, Homero Santiago
6 Machado, João Paulo Barros
7 Massi, Marcos
Identificador de Curriculo1
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3
4
5
6 8JMKD3MGP5W/3C9JHER
Grupo1
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3
4
5
6 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Phys. Dept., Technol. Inst. of Aeronaut. (ITA), São José dos Campos, Brazil
2 Technological Institute of Aeronautics (ITA), Physics Department, Sao Jose dos Campos-SP, Brazil; Space Research and Technology Institute, Acad. G .Bonchev Str. BI.1, 1113, Sofia, Bulgaria
3 Technological Institute of Aeronautics (ITA), Physics Department, Sao Jose dos Campos-SP, Brazil
4
5 Technological Institute of Aeronautics (ITA), Physics Department, Sao Jose dos Campos-SP, Brazil
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
7 Federal University of Sao Paulo - ICT, Sao Jose dos Campos - SP, Brazil
Endereço de e-Mail do Autor1
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3
4
5
6 joaopaulo@las.inpe.br
Endereço de e-Mailjoaopaulo@las.inpe.br
Nome do EventoSymposium on Microelectronics Technology and Devices, (SBMicro).
Localização do EventoCuritiba
Data2-6 Sept. 2013
Volume1
Páginas8-9
Título do LivroProceedings
Tipo SecundárioPRE CI
Histórico2013-12-12 16:12:30 :: lattes -> administrator ::
2014-01-15 11:14:24 :: administrator -> marcelo.pazos@sid.inpe.br :: 2013
2014-01-17 10:42:34 :: marcelo.pazos@sid.inpe.br -> administrator :: 2013
2018-06-04 23:39:18 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
Área de conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteudoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
ResumoTitanium dioxide (TiO2) thin films were deposited on silicon p type (100) substrates by reactive magnetron sputtering technique at different oxygen partial pressures. The film structure was studied by X-Ray Diffraction (XRD), while the film composition was examined by Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS). Finally, Metal-Oxide Semiconductor (MOS) capacitors were manufactured and some important physical constants were analyzed as function of the oxygen content in the films. It was found that the films deposited at lower oxygen partial pressure exhibited better crystalline structure and higher dielectric constant.
AreaFISMAT
ArranjoRepositório da BDMCI > Fonds INPE > Produção > LABAS > High quality TiO2...
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Conteúdo da Pasta agreementnão têm arquivos
Área de condições de acesso e uso
URL dos dadoshttp://urlib.net/rep/8JMKD3MGP3W/3FCL894
URL dos dados zipadoshttp://urlib.net/zip/8JMKD3MGP3W/3FCL894
Idiomaen
Arquivo Alvo06676130.pdf
Grupo de Usuárioslattes
marcelo.pazos@inpe.br
Grupo de Leitoresadministrator
marcelo.pazos@inpe.br
Visibilidadeshown
Permissão de Leituraallow from all
Permissão de Atualizaçãonão transferida
Área de fontes relacionadas
Repositório Espelhoiconet.com.br/banon/2006/11.26.21.31
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
Acervo Hospedeirodpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01
Área de notas
Campos Vaziosaccessionnumber archivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination doi edition editor format issn keywords lineage mark nextedition notes numberofvolumes orcid organization parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project publisher publisheraddress rightsholder secondarydate secondarykey secondarymark serieseditor session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype type url
Área de controle da descrição
e-Mail (login)marcelo.pazos@inpe.br
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