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A expressão de busca foi <secondaryty pi and firstg LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR and y 2013 and dissemination websci>.
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Tipo de ReferênciaJournal Article
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP5W34M/3FA7RGC
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Última Atualização2014:02.06.12.18.38 administrator
Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.27.13.22.59
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.03.14.16 administrator
DOI10.1016/j.surfcoat.2013.04.029
ISSN0257-8972
Rótuloisi 2013-11
Chave de CitaçãoFernandesOUMRVMO:2013:EfHiTe
TítuloEffects of high temperature plasma immersion ion implantation on wear resistance of Ti-Si-B sintered alloys
Ano2013
MêsAug.
Data de Acesso24 fev. 2021
Tipo de Trabalhojournal article
Número de Arquivos1
Tamanho1558 KiB
Área de contextualização
Autor1 Fernandes, Bruno Bacci
2 Oliveira, Rogerio Moraes
3 Ueda, Mario
4 Mariano, Samantha de Fátima Magalhães
5 Ramos, Alfeu Saraiva
6 Vieira, Maxson Souza
7 Melo, Francisco Cristóvão Lourenço de
8 Oliveira, Guilherme de
Identificador de Curriculo1
2
3 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB
Grupo1
2
3 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
4 CMS-ETES-SPG-INPE-MCTI-GOV-BR
5
6 CMS-ETES-SPG-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 INPE, LAP, Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil.
2 INPE, LAP, Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil.
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
5 Univ Estadual Paulista, UNESP, FEG, BR-12516410 Guaratingueta, SP, Brazil.
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
7 IAE, DCTA, BR-12228904 Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil.
8 INPE, LAP, Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil.; ETEP Fac, BR-12600970 Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil.
Endereço de e-Mail do Autor1 brunobacci@yahoo.com.br
2
3 ueda@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmarcelo.pazos@inpe.br
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume228
Páginas195-200
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaA1 A1 A1 A2 A2 A2 B1 B1 B1 B1 B2 B2
Histórico2018-06-04 03:14:16 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
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Palavras-Chavetitanium alloys, tribological properties, powder metallurgy.
ResumoAlthough titanium and its alloys own good mechanical properties and excellent corrosion resistance, these materials present poor tribological properties for specific applications that require wear resistance. In order to produce wear-resistant surfaces, this work is aimed at achieving improvement of wear characteristics in Ti-Si-B alloys by means of high temperature nitrogen plasma immersion ion implantation (Pill). These alloys were produced by powder metallurgy using high energy ball milling and hot pressing. Scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction identified the presence of alpha-titanium, Ti6Si2B, Ti5Si3, TiB and Ti3Si phases. Wear tests were carried out with a ball-on-disk tribometer to evaluate the friction coefficient and wear rate in treated and untreated samples. The worn profiles were measured by visible light microscopy and examined by SEM in order to determine the wear rates and wear mechanisms. Ti-7.5Si-22.5B alloy presented the highest wear resistance amongst the untreated alloys produced in this work. High temperature PIII was effective to reduce the wear rate and friction coefficient of all the Ti-Si-B sintered alloys.
AreaFISPLASMA
Arranjo 1INPE > Produção > LABAP > Effects of high...
Arranjo 2INPE > Produção > CMS > Effects of high...
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Repositório Espelhoiconet.com.br/banon/2006/11.26.21.31
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
8JMKD3MGPCW/3F358GL
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; SCOPUS.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
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Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
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Tipo de ReferênciaJournal Article
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP5W34M/3FA45C7
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Última Atualização dos Metadados2018:06.04.03.14.11 administrator
DOI10.1016/j.sna.2013.09.007
ISSN0924-4247
Rótuloscopus 2013-11
Chave de CitaçãoHasarBarKayErtBut:2013:ReInTr
TítuloReference-plane invariant transmission-reflection method for measurement of constitutive parameters of liquid materials
Ano2013
MêsDec.
Data de Acesso24 fev. 2021
Tipo de Trabalhojournal article
Número de Arquivos1
Tamanho1457 KiB
Área de contextualização
Autor1 Hasar, Ugur Cem
2 Barroso, Joaquim Jose
3 Kaya, Yunus
4 Ertugrul, Mehmet
5 Bute, Musa
Grupo1
2 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Department of Electrical and Electronics Engineering, University of Gaziantep, 27310 Gaziantep, Turkey; Center for Research and Application of Nanoscience and Nanoengineering, Ataturk University, 25240 Erzurum, Turkey
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Department of Electrical and Electronics Engineering, Ataturk University, 25240 Erzurum, Turkey; Department of Electricity and Energy, Bayburt University, Bayburt 69000, Turkey
4 Center for Research and Application of Nanoscience and Nanoengineering, Ataturk University, 25240 Erzurum, Turkey; Department of Electrical and Electronics Engineering, Ataturk University, 25240 Erzurum, Turkey
5 Department of Electrical and Electronics Engineering, University of Gaziantep, 27310 Gaziantep, Turkey
Endereço de e-Mail do Autor1 uchasar@gantep.edu.tr
2 barroso@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmarcelo.pazos@inpe.br
RevistaSensors and Actuators, A: Physical
Volume203
Páginas346-354
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaA1 A2 B2
Histórico2018-06-04 03:14:11 :: administrator -> :: 2013
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Palavras-Chavecomplex permittivity determination, resolving phase ambiguity, loss dielectric materials, microwave-frequencies, broad-band, calibration plane, only measurements, unique retrieval, lossy materials, inverse problem.
ResumoWe propose a new transmission-reflection method for measuring constitutive parameters of liquid samples inside an asymmetric measurement cell (a sample over a low-loss holder in vertical position inside an empty waveguide section). We derived reference-plane invariant expressions for constitutive parameters measurement of liquid samples from reference-plane dependent scattering parameters. In addition, we also applied a simple approach for unique determination of transformation factor and reference-plane distances. After, we also investigated how the performance of the proposed method could be improved by performing a differential uncertainty analysis. From this analysis, we found the following key results: (a) the accuracy of the proposed method could be enhanced for low-loss liquid samples by using thicker samples, and (b) the effect of constitutive parameters and the length of the (low-loss) sample holder on constitutive parameters measurements of liquid samples by the proposed method is a key parameter in increasing the accuracy of the measurements. Finally, we performed constitutive parameter measurements of distilled water and methanol to validate the proposed method and compared the proposed method with similar methods in the literature. From the measurements, we note that our method is especially useful for liquid sample measurements when the reference-plane transformation factors are not known a priori and/or if the measurements are carried out over a high frequency range.
AreaFISPLASMA
ArranjoINPE > Produção > LABAP > Reference-plane invariant transmission-reflection...
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Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; SCOPUS.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
Área de notas
Campos Vaziosalternatejournal archivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
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Tipo de ReferênciaJournal Article
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP5W34M/3FA45B2
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.53.24   (acesso restrito)
Última Atualização2015:03.12.13.19.00 administrator
Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.53.25
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.03.14.10 administrator
DOI10.1109/TPS.2013.2258894
ISSN0093-3813
Rótuloscopus 2013-11
Chave de CitaçãoKuekLiewSchaRoss:2013:OsPuGe
TítuloOscillating Pulse Generator Based on a Nonlinear Inductive Line
Ano2013
MêsOct.
Data de Acesso24 fev. 2021
Tipo de Trabalhojournal article
Número de Arquivos1
Tamanho1125 KiB
Área de contextualização
Autor1 Kuek, N. S.
2 Liew, A. C.
3 Schamiloglu, E.
4 Rossi, Jose Osvaldo
Identificador de Curriculo1
2
3
4 8JMKD3MGP5W/3C9JHJ5
Grupo1
2
3
4 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 National University of Singapore
2 National University of Singapore
3 University of New Mexico
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
Endereço de e-Mail do Autor1
2
3
4 rossi@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmarcelo.pazos@inpe.br
RevistaIEEE Transactions on Plasma Science
Volume41
Número10
Páginas2619-2624
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaB1 B1 B1 B3
Histórico2018-06-04 03:14:10 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
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Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveCommercial off-the-shelf components, Dispersive characteristic, Frequency contents, Landau-Lifshitz-Gilbert equations, Non-linear inductors, Nonlinear lumped element transmission lines (NLETL), Oscillating pulses, Voltage modulations, Capacitors, Circuit simulation, Electric lines, Modulation, Superconducting devices, Transmission line theory, Pulse generators.
ResumoA chain of cascading LC sections consisting of series nonlinear inductors and parallel linear capacitors can be used to generate oscillating pulses. When a rectangular pulse is injected into the input of such a nonlinear inductive line (NLIL), the pulse undergoes modulation and exits at the output with oscillations in the waveform. This paper describes the implementation of high-voltage NLILs using commercial-off-the-shelf components. A pulser comprising of a storage capacitor and a fast semiconductor switch is used to provide the input pulse with approximate rectangular pulse shape. The design of the NLIL, which is a type of nonlinear lumped element transmission line (NLETL), is based on a NLETL circuit model developed earlier in-house. The nonlinear inductors made of ferrites are modeled using a simplified form of the Landau-Lifshitz-Gilbert (LLG) equation. A simple novel approach is proposed to determine the characteristic parameters in the LLG equation. Simulation results from the NLETL model are compared to the experimental results, and analyses on the voltage modulation and frequency content of the output pulses are performed. The use of crosslink capacitors in the line to modify the dispersive characteristics to enhance the performance is also investigated. With the results, the conditions and trends for producing oscillating pulses in NLILs are discussed.
AreaFISPLASMA
ArranjoINPE > Produção > LABAP > Oscillating Pulse Generator...
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Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; IEEEXplore; SCOPUS.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
Área de notas
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Tipo de ReferênciaJournal Article
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP5W34M/3FA45DU
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.54.44   (acesso restrito)
Última Atualização2015:03.12.13.17.22 administrator
Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.54.45
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.03.14.12 administrator
DOI10.1109/TDEI.2013.6571427
ISSN1070-9878
Rótuloscopus 2013-11
Chave de CitaçãoKuekLiewSchaRoss:2013:PuRFOs
TítuloPulsed RF oscillations on a nonlinear capacitive transmission line
Ano2013
MêsAug.
Data de Acesso24 fev. 2021
Tipo de Trabalhojournal article
Número de Arquivos1
Tamanho660 KiB
Área de contextualização
Autor1 Kuek, N. S.
2 Liew, A. C.
3 Schamiloglu, E.
4 Rossi, Jose Osvaldo
Identificador de Curriculo1
2
3
4 8JMKD3MGP5W/3C9JHJ5
Grupo1
2
3
4 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 National University of Singapore
2 National University of Singapore
3 University of New Mexico
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
Endereço de e-Mail do Autor1
2
3
4 rossi@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmarcelo.pazos@inpe.br
RevistaIEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation
Volume20
Número4
Páginas1129-1135
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaA1 A1 B1 B2 B2
Histórico2018-06-04 03:14:12 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
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Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveCommercial off-the-shelf components, Decoupling capacitor, Frequency tunability, Nonlinear lumped element transmission lines (NLETL), oscillating pulses, Pulse forming lines, Pulse forming networks, Voltage modulations, Capacitors, Complex networks, Computer simulation, Modulation, Pulse generators, Transmission line theory, Electric lines.
ResumoA nonlinear lumped element transmission line (NLETL) that consists of a nonlinear LC ladder network whose capacitors are nonlinear and inductors are linear can be used to produce oscillating pulses. This article describes the implementation of an oscillating pulse generator based on such high voltage nonlinear capacitive lines (NLCL) using commercial-off-the-shelf (COTS) components. Instead of using complex pulse forming networks or pulse forming lines, a storage capacitor and a fast semiconductor switch are used to provide an input pulse onto the cascading LC-elements of the NLCL with good approximation of a rectangular pulse-shape. The design of the NLCL is based on the NLETL circuit model that was developed earlier in-house. Experimental results are compared with simulations predicted by this NLETL model. The voltage modulation and the frequency content of the output pulses are analyzed. The conventional single NLCL produces a signal with a DC offset and a decoupling capacitor is needed at the end of the line to extract the AC component before injecting onto a load such as an antenna. A novel method of directly extracting the AC component without the use of a decoupling capacitor is proposed and investigated. Results of this direct AC extraction, which show the possibility of better performance, are discussed. The frequency tunability of this nonlinear line was also demonstrated.
AreaFISPLASMA
ArranjoINPE > Produção > LABAP > Pulsed RF oscillations...
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Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; IEEEXplore; SCOPUS.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
Área de notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype url
Área de identificação
Tipo de ReferênciaJournal Article
Sitemtc-m16d.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP7W/3E9B7NC
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m19/2013/06.09.02.13.22   (acesso restrito)
Última Atualização2013:07.01.14.24.28 administrator
Metadadossid.inpe.br/mtc-m19/2013/06.09.02.13.23
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.04.14.11 administrator
DOI10.1088/0029-5515/53/5/053001
ISSN0029-5515
Rótuloscopus
Chave de CitaçãoLudwigRodrBiza:2013:ToEqSt
TítuloTokamak equilibria with strong toroidal current density reversal
Ano2013
Data de Acesso24 fev. 2021
Tipo de Trabalhojournal article
Número de Arquivos1
Tamanho1635 KiB
Área de contextualização
Autor1 Ludwig, Gerson Otto
2 Rodrigues, Paulo
3 Bizarro, João P. S.
Identificador de Curriculo1 8JMKD3MGP5W/3C9JHB4
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Laboratório Associado de Plasma, INPE, 12227-010 São José dos Campos, SP, Brazil
2 Associação Euratom-IST, Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Universidade Técnica de Lisboa, 1049-001 Lisboa, Portugal
3 Associação Euratom-IST, Instituto de Plasmas e Fusão Nuclear, Universidade Técnica de Lisboa, 1049-001 Lisboa, Portugal
Endereço de e-Mail do Autor1 ludwig@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmarcelo.pazos@inpe.br
RevistaNuclear Fusion
Volume53
Número5
Páginas20pp
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaA2 A2
Histórico2018-06-05 04:14:11 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
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Tipo do ConteudoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chaveasymmetric system, Dirichlet boundary condition, energy principles, internal equilibrium, spectral representations, surface current density, Tokamak equilibria, toroidal current density, boundary conditions, geometry, method of moments, plasma turbulence, magnetoplasma.
ResumoThe equilibrium of large magnetic islands in the core of a tokamak under conditions of strong toroidal current density reversal is investigated by a new method. The method uses distinct spectral representations to describe each simply connected region as well as the containing shell geometry. This ideal conducting shell may substitute for the plasma edge region or take a virtual character representing the external equilibrium field effect. The internal equilibrium of the islands is solved within the framework of the variational moment method. Equivalent surface current densities are defined on the boundaries of the islands and on the thin containing shell, giving a straightforward formulation to the interaction between regions. The equilibrium of the island-shell system is determined by matching moments of the Dirichlet boundary conditions. Finally, the macroscopic stability against a class of tilting displacements is examined by means of an energy principle. It is found out that the up-down symmetric islands are stable to this particular perturbation and geometry but the asymmetric system presents a bifurcation in the equilibrium.
AreaFISPLASMA
ArranjoBDMCI > Fonds > Produção > LABAP > Tokamak equilibria with...
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Idiomaen
Arquivo AlvoLudwigGO_NuclFusion53a053001_2013.pdf
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self-uploading-INPE-MCTI-GOV-BR
Grupo de Leitoresadministrator
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Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft12
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Repositório Espelhoiconet.com.br/banon/2006/11.26.21.31
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; SCOPUS.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02
Área de notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark month nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
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e-Mail (login)marcelo.pazos@inpe.br
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Tipo de ReferênciaJournal Article
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP5W34M/3FA44R8
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.47.39   (acesso restrito)
Última Atualização2014:02.11.13.03.26 administrator
Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.47.40
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.03.14.08 administrator
DOI10.1016/j.apsusc.2013.06.119
ISSN0169-4332
Rótuloscopus 2013-11
Chave de CitaçãoOliveiraOCGUSPT:2013:DeSuAn
TítuloDetailed surface analyses and improved mechanical and tribological properties of niobium treated by high temperature nitrogen plasma based ion implantation
Ano2013
MêsOct.
Data de Acesso24 fev. 2021
Tipo de Trabalhojournal article
Número de Arquivos1
Tamanho2561 KiB
Área de contextualização
Autor1 Oliveira, Rogerio de Moraes
2 Oliveira, A. C.
3 Carreri, F. C.
4 Gomes, G. F.
5 Ueda, M.
6 Silva, M. M. N. F.
7 Pichon, L.
8 Tóth, A.
Identificador de Curriculo1 8JMKD3MGP5W/3C9JJ6L
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, São José Dos Campos, São Paulo, Brazil
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, São José Dos Campos, São Paulo, Brazil
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, São José Dos Campos, São Paulo, Brazil
5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, São José Dos Campos, São Paulo, Brazil
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, São José Dos Campos, São Paulo, Brazil
7 Laboratoire de Métallurgie Physique, Université de Poitiers, Poitiers, France
8 Institute of Materials and Environmental Chemistry, CRC HAS, Budapest, Hungary
Endereço de e-Mail do Autor1 rogerio@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmarcelo.pazos@inpe.br
RevistaApplied Surface Science
Volume283
Páginas382-388
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaA1 A1 A1 A2 A2 B1 B1 B1 B1 B1 B1 B1 B1 B1 B1 B2 B2 B2 C
Histórico2018-06-04 03:14:08 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
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Palavras-Chaveelectron bombardments, friction coefficients, high temperature, mechanical and tribological properties, niobium nitride, plasma-based ion implantation, transition metal nitrides, X-ray diffraction spectrum, mechanical properties, niobium, nitrogen plasma, surface roughness, transition metal compounds, tribology, ion implantation.
ResumoTransition metal nitrides, as is the case of NbN, exhibit an attractive mixture of physical, chemical and mechanical properties and can be used to overcome a severe constraint of pure niobium, that is the high oxidation rate for temperature above 400 C. In this work nitrogen ions were implanted into niobium by means of plasma based ion implantation (PBII) and high temperature PBII (HTPBII) in order to produce NbN on the surface of the material. In the case of HTPBII the treatment was performed in the temperature of 1000 C and 1250 C. In the process, negative pulses of 10 kV/20 us/500 Hz were applied to Nb samples for 1 h. The depth of the modified layer reached up to 4.5 ¼m due to the diffusion of nitrogen atoms implanted into the material. X-ray diffraction spectra showed the presence of µ-NbN, ²-Nb2N and ³-Nb4N3 phases. Wear rate was reduced from 1.5 × 10-2 mm3/Nm up to 2.6 × 10-6 mm3/Nm for treated samples at high temperature in comparison with pristine samples, while friction coefficient was reduced from 0.8 to 0.25. Hardness was significantly increased. Surface topography was measured by optical profilometry. Surface roughness increases with the sample temperature but it remains lower than the one obtained by conventional PBII, very probably due to the heating method, which was performed by electron bombardment.
AreaGEST
ArranjoRepositório da BDMCI > Fonds INPE > Produção intelectual > LABAP > Detailed surface analyses...
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Idiomaen
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Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
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Tipo de ReferênciaJournal Article
Siteplutao.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
IdentificadorJ8LNKAN8RW/3C63EQE
Repositóriodpi.inpe.br/plutao/2012/06.21.17.26   (acesso restrito)
Última Atualização2013:07.02.17.41.36 administrator
Metadadosdpi.inpe.br/plutao/2012/06.21.17.26.18
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.23.39.04 administrator
DOI10.1016/j.vacuum.2012.03.049
ISSN0042-207X
Rótulolattes: 4955583664355437 2 OliveiraVieiUeda:2012:GrZnNa
Chave de CitaçãoOliveiraVieiUedaTóth:2013:GrZnNa
TítuloGrowth of ZnO nanostructures on Si by means of plasma immersion ion implantation and deposition
Ano2013
MêsMar.
Data de Acesso24 fev. 2021
Número de Arquivos2
Tamanho1543 KiB
Área de contextualização
Autor1 Oliveira, Rogério de Moraes
2 Vieira, Maxson Souza
3 Ueda, Mário
4 Tóth, A
Identificador de Curriculo1 8JMKD3MGP5W/3C9JJ6L
2
3 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
2 CMS-ETES-SPG-INPE-MCTI-GOV-BR
3 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 CRC HAS, Inst Mat & Environm Chem, Budapest, Hungary.
Endereço de e-Mail do Autor1 rogerio@plasma.inpe.br
2 maxson.vieira@gmail.com
3 ueda@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmaxson.vieira@gmail.com
RevistaVacuum
Volume89
Número1
Páginas163-167
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaB1 B1 B1 B1 B2 B3 B4
Histórico2012-06-22 00:10:59 :: lattes -> secretaria.cpa@dir.inpe.br :: 2012
2012-08-31 19:13:53 :: secretaria.cpa@dir.inpe.br -> banon :: 2012
2012-09-27 14:58:38 :: banon -> administrator :: 2012
2012-10-22 01:02:30 :: administrator -> secretaria.cpa@dir.inpe.br :: 2012
2013-01-07 17:48:28 :: secretaria.cpa@dir.inpe.br -> administrator :: 2012
2013-07-02 17:31:22 :: administrator :: 2012 -> 2013
2018-06-04 23:39:04 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
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Tipo do ConteudoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveAFM image, Argon glow discharges, Coated surface, Composition analysis, DC voltage, Depth analysis, Nanoscale ranges, Nanothorns, Negative voltage, Oxide cathode, Plasma based ion implantation and deposition, Plasma immersion ion implantation and deposition, Plasma particles, Room temperature, Sample holders, Si substrates, Si surfaces, UV- and, Visible photoluminescence, XRD, Zinc oxide (ZnO), Zn atoms, Zn deposition, ZnO, ZnO nanoparticles, ZnO nanostructures, ZnO on Si, Atomic force microscopy, Electric potential, Energy dispersive spectroscopy, Glow discharges, Ion implantation, Nanostructures, Photoelectrons, Photoluminescence, Photoluminescence spectroscopy, Plasma deposition, Scanning electron microscopy, Silicon, Stoichiometry, Thermionic emission, X ray diffraction, X ray photoelectron spectroscopy, Zinc, Zinc plating.
ResumoCrystalline zinc oxide (ZnO) nanostructures have been grown on Si substrates by means of Plasma Based Ion Implantation and Deposition (PIII&D) at a temperature of about 300 C and in the presence of an argon glow discharge. In the process a crucible filled with small pieces of metallic zinc plays the role of the anode of the discharge itself, being polarized by positive DC voltage of about 400 V. Electrons produced by thermionic emission by an oxide cathode (Ba, Sr, Ca)O impact this crucible, causing its heating and vaporization of Zn. Partial ionization of Zn atoms takes place due to collisions with plasma particles. High negative voltage pulses (7 kV/40 ms/250 Hz) applied to the sample holder causes the implantation of metallic zinc into Si surface, while Zn deposition happens between pulses. After annealing at 700 C, strong UV and various visible photoluminescence bands are observed at room temperature, as well as the presence of ZnO nanoparticles. The coated surface was characterized in detail using X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), energy dispersive spectroscopy (EDS), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM) and photoluminescence (PL) spectroscopy. XRD indicated the presence of only ZnO peaks after annealing. The composition analysis by EDS revealed distinct Zn/O stoichiometry relation depending on the conditions of the process. AFM images showed the formation of columns in the nanoscale range. Topography viewed by SEM showed the formation of structures similar to cactus with nanothorns. Depth analysis performed by XPS indicated an increase of concentration of metallic Zn with increasing depth and the exclusive presence of ZnO for outer regions. PIII&D allowed to growing nanostructures of ZnO on Si without the need of a buffer layer.
AreaFISPLASMA
Arranjo 1INPE > Produção > LABAP > Growth of ZnO...
Arranjo 2INPE > Produção > CMS > Growth of ZnO...
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Idiomaen
Arquivo AlvoGrowth of ZnO nanostructures on Si by means of plasma immersion ion implantation and deposition.pdf
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VinculaçãoTrabalho Vinculado à Tese/Dissertação
Repositório Espelhoiconet.com.br/banon/2006/11.26.21.31
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
8JMKD3MGPCW/3F358GL
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; SCOPUS.
Acervo Hospedeirodpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01
Área de notas
Notas17th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB), Harbin, PEOPLES R CHINA, SEP 13-17, 2011
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark nextedition orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarytype typeofwork url
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e-Mail (login)marcelo.pazos@inpe.br
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Área de identificação
Tipo de ReferênciaJournal Article
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP5W34M/3FA44TD
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.48.38   (acesso restrito)
Última Atualização2014:04.14.14.16.17 administrator
Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2013/11.26.16.48.39
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.03.14.09 administrator
DOI10.1016/j.surfcoat.2012.06.057
ISSN0257-8972
Rótuloscopus 2013-11
Chave de CitaçãoUedaOlRoMeRaVi:2013:ImPlIm
TítuloImprovements of plasma immersion ion implantation (PIII) and deposition (PIII&D) processing for materials surface modification
Ano2013
MêsAug.
Data de Acesso24 fev. 2021
Tipo de Trabalhojournal article
Número de Arquivos1
Tamanho1575 KiB
Área de contextualização
Autor1 Ueda, Mario
2 Oliveira, Rogerio de Moraes
3 Rossi, Jose Osvaldo
4 Mello, Carina Barros
5 Rangel, R. C. C.
6 Vieira, M. S.
Identificador de Curriculo1 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB
2 8JMKD3MGP5W/3C9JJ6L
3 8JMKD3MGP5W/3C9JHJ5
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
2 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
3 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
4 LAP-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
5 UNESP-Sorocaba
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
Endereço de e-Mail do Autor1 ueda@plasma.inpe.br
2 rogerio@plasma.inpe.br
3 rossi@plasma.inpe.br
4 carina@plasma.inpe.br
Endereço de e-Mailmarcelo.pazos@inpe.br
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume229
Páginas97-104
Tipo SecundárioPRE PI
Nota SecundáriaA1 A1 A1 A2 A2 A2 B1 B1 B1 B1 B2 B2
Histórico2018-06-04 03:14:09 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013
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Transferível1
Tipo do ConteudoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chave1070 steel, high temperature, hydroxyapatite films, magnetron-sputtering deposition, materials surface modifications, plasma immersion ion implantation, plasma immersion ion implantation and deposition, plasma-materials interaction, alloy steel, biological materials, calcium, corrosion resistance, film growth, glow discharges, hydroxyapatite, ion implantation, magnetron sputtering, nitrogen, nitrogen plasma, plasma applications, surfaces, three dimensional, titanium alloys, wear resistance, deposition.
ResumoPlasma immersion ion implantation (PIII) process is a three dimensional surface modification method that is quite mature and well known to the surface engineering community nowadays, especially to those working in the field of plasma-materials interaction, aiming at both industrial and academic applications. More recently, deposition methods have been added to PIII, the PIII&D, opening possibilities of broader range of applications of these techniques. So, PIII&D is becoming a routine method of surface modification, with the advantage of pushing up the retained dose levels limited by the sputtering due to ion implantation. Therefore, well adherent, thick, three-dimensional films without stress are possible to be achieved, at relatively low cost, using PIII&D. In this paper, we will discuss about a few PIII and PIII&D experiments that have been performed recently to achieve surface improvements in different materials: 1 - high temperature nitrogen PIII in Ti6Al4V alloy in which a deep nitrogen rich treated layer resulted in surface improvements as increase of hardness, corrosion resistance and resistance to wear of the Ti alloy; 2 - nanostructures in ZnO films, obtained by PIII&D of vaporized & ionized Zn source; 3 - combined implantation and deposition of calcium for biomaterial activity of Ti alloy (PIII&D), allowing the growth of hydroxyapatite in a body solution; 4 - magnetron sputtering deposition of Cr that was enhanced by the glow discharge Ar plasma to allow implantation and deposition of Cr on SAE 1070 steel (PIII&D) resulting in surfaces with high resistance to corrosion; and 5 - implantation of nitrogen by ordinary PIII into this Cr film, which improved resistance to corrosion, while keeping the tribological properties as good as for the SAE 1070 steel surface. © 2012 Elsevier B.V.
AreaFISPLASMA
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Idiomaen
Arquivo Alvo1s20S0257897212006263main.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
marcelo.pazos@inpe.br
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Permissão de Atualizaçãonão transferida
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Repositório Espelhoiconet.com.br/banon/2006/11.26.21.31
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; SCOPUS.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
Área de notas
NotasThe Eleventh International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition 8-12 September 2011, Harbin, China
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