@Book{MiglioriniAleLanBalFer:2012:MaPrCr,
               author = "Migliorini, Fernanda Lanzoni and Alegre, Marcela Dalprat and 
                         Lanza, Marcos Roberto de Vasconcelos and Baldan, Maur{\'{\i}}cio 
                         Ribeiro and Ferreira, Neidenei Gomes",
                title = "Manual de procedimentos para crescimento de filmes de diamante 
                         dopado com boro crescidos sobre tit{\^a}nio",
            publisher = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais",
                 year = "2012",
              address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
             keywords = "diamante dopado com boro, tit{\^a}nio, doped boron diamond, 
                         titaniun.",
             abstract = "Este trabalho apresenta como proposta descrever os procedimentos 
                         para o crescimento de filmes de diamante dopado com boro crescidos 
                         sobre tit{\^a}nio. Estes filmes foram crescidos pela t{\'e}cnica 
                         de deposi{\c{c}}{\~a}o qu{\'{\i}}mica na fase vapor 
                         (\textquotedblleft{Chemical Vapor Deposition}\textquotedblright 
                         - CVD) utilizando um reator de filamento quente. {\'E} 
                         apresentada nesta norma t{\'e}cnica toda a parte de 
                         prepara{\c{c}}{\~a}o do substrato, bem como a do reator de 
                         crescimento e as condi{\c{c}}{\~o}es experimentais estabelecidas 
                         para se obter um filme de diamante dopado com boro homog{\^e}neo 
                         e bem aderente no substrato de tit{\^a}nio. ABSTRACT: This work 
                         presents a proposal to describe the procedures for the growth of 
                         boron doped diamond films grown on titanium. These films are grown 
                         by the technique of chemical vapor deposition 
                         (\textquotedblleft{Chemical Vapor Deposition}\textquotedblright 
                         - CVD) using a hot filament reactor. is presented in this standard 
                         technique for the preparation of the substrate, as well as the 
                         growth reactor, and set the experimental conditions to obtain a 
                         boron doped diamond film homogeneous and well adherent to the 
                         substrate of titanium.",
          affiliation = "{Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)} and {Instituto 
                         Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)} and Universidade de 
                         S{\~a}o Paulo - USP, Campus de S{\~a}o Carlos and {Instituto 
                         Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)} and {Instituto Nacional de 
                         Pesquisas Espaciais (INPE)}",
           copyholder = "SID/SCD",
             language = "pt",
                pages = "25",
                  ibi = "8JMKD3MGP7W/3CAJG5L",
                  url = "http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP7W/3CAJG5L",
           targetfile = "publicacao.pdf",
        urlaccessdate = "16 jun. 2024"
}