@InProceedings{MedeirosMell:2018:EsAdFi,
author = "Medeiros, F. I. and Mello, Carina Barros",
title = "Estudo da ades{\~a}o de filmes finos de ouro depositados sobre
alum{\'{\i}}nio por processos de deposi{\c{c}}{\~a}o
f{\'{\i}}sica a partir da fase vapor",
booktitle = "Anais...",
year = "2018",
editor = "Santos, Walter Abrah{\~a}o dos and Rodrigues, Italo Pinto and
Lima, Jeanne Samara dos Santos and Rodrigues, Aline Castilho and
Mateus, Dairo Antonio Cuellar and Moreira, Herbi J{\'u}nior
Pereira and Barbosa, ivan M{\'a}rcio and Ten{\'o}rio,
Pl{\'{\i}}nio Ivo Gama and Toledo, Rafael Cardoso and Pereira,
Yuri Matheus Dias",
organization = "Workshop em Engenharia e Tecnologia Espaciais, 9. (WETE)",
publisher = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
keywords = "Magnetron sputtering, Descarga de catodo oco, Sensores
ionosf{\'e}ricos, Filmes Finos de ouro.",
abstract = "As propriedades mec{\^a}nicas e el{\'e}tricas do
alum{\'{\i}}nio tornam-no boa op{\c{c}}{\~a}o para integrar
sistemas espaciais, por{\'e}m, no ambiente espacial, a
incid{\^e}ncia de radia{\c{c}}{\~a}o e a alta
concentra{\c{c}}{\~a}o de oxig{\^e}nio at{\^o}mico contribuem
para a degrada{\c{c}}{\~a}o superficial de tais componentes,
inviabilizando determinadas aplica{\c{c}}{\~o}es. Sensores
ionosf{\'e}ricos de alum{\'{\i}}nio s{\~a}o dispostos em
regi{\~o}es externas de sat{\'e}lites com o objetivo de coletar
{\'{\i}}ons e el{\'e}trons do plasma ionosf{\'e}rico para
determinar par{\^a}metros como densidade, temperatura e potencial
el{\'e}trico do plasma. Em meio {\`a} degrada{\c{c}}{\~a}o
superficial do alum{\'{\i}}nio no espa{\c{c}}o, o recobrimento
destes sensores com uma camada fina de ouro surge como
op{\c{c}}{\~a}o protetiva contra a severa oxida{\c{c}}{\~a}o
no espa{\c{c}}o. T{\'e}cnicas de deposi{\c{c}}{\~a}o
qu{\'{\i}}mica comumente utilizadas t{\^e}m apresentado falhas
na ades{\~a}o, principalmente nas regi{\~o}es das juntas de
soldagem destes sensores provocando a delamina{\c{c}}{\~a}o dos
filmes. Com o objetivo de maximizar a ades{\~a}o do ouro sobre o
alum{\'{\i}}nio, este trabalho avaliou a ader{\^e}ncia de
filmes depositados por um sistema h{\'{\i}}brido de
deposi{\c{c}}{\~a}o que associa implanta{\c{c}}{\~a}o
i{\^o}nica por imers{\~a}o em plasma, descarga secund{\'a}ria
de catodo oco e pulveriza{\c{c}}{\~a}o cat{\'o}dica (magnetron
sputtering). Neste processo, o magnetron sputtering fornece os
{\'a}tomos pulverizados de ouro para a forma{\c{c}}{\~a}o do
filme. Durante o trajeto de deposi{\c{c}}{\~a}o estes
{\'a}tomos atravessam uma descarga secund{\'a}ria de alta
densidade e participam de um processo colisional ionizante, assim,
parte destes {\'a}tomos s{\~a}o ionizados. Simultaneamente
pulsos de alta tens{\~a}o negativa s{\~a}o aplicados no
substrato para que haja a implanta{\c{c}}{\~a}o destes
{\'{\i}}ons, favorecendo um ancoramento mec{\^a}nico entre
filme e substrato. Para efeito comparativo tamb{\'e}m foram
depositados filmes finos de ouro somente por
pulveriza{\c{c}}{\~a}o cat{\'o}dica e filmes de ouro sobre
intercamadas de cromo. An{\'a}lises de resist{\^e}ncia ao
riscamento por esclerometria e microscopia eletr{\^o}nica de
varredura mostram que os filmes depositados pelo sistema associado
com descarga secund{\'a}ria s{\~a}o mais aderentes se comparado
aos depositados somente por magnetron sputtering e, al{\'e}m
disso, a intercamada de cromo somada {\`a} utiliza{\c{c}}{\~a}o
da descarga secund{\'a}ria aumenta ainda mais a ader{\^e}ncia do
filme.",
conference-location = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
conference-year = "15-16 ago. 2018",
issn = "2177-3114",
language = "pt",
organisation = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
ibi = "8JMKD3MGPDW34R/3S2EJFE",
url = "http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGPDW34R/3S2EJFE",
targetfile = "10 - [Artigo] Fabricio Iusuti de Medeiros.pdf",
type = "Ci{\^e}ncia e Tecnologia de Materiais e Controle",
urlaccessdate = "18 abr. 2024"
}