%0 Conference Proceedings
%4 sid.inpe.br/mtc-m16d/2018/10.11.17.08
%2 sid.inpe.br/mtc-m16d/2018/10.11.17.08.01
%@issn 2177-3114
%T Estudo da adesão de filmes finos de ouro depositados sobre alumínio por processos de deposição física a partir da fase vapor
%D 2018
%A Medeiros, F. I.,
%A Mello, Carina Barros,
%@electronicmailaddress fiusuti@gmail.com
%@electronicmailaddress carina.mello@inpe.br
%E Santos, Walter Abrahão dos,
%E Rodrigues, Italo Pinto,
%E Lima, Jeanne Samara dos Santos,
%E Rodrigues, Aline Castilho,
%E Mateus, Dairo Antonio Cuellar,
%E Moreira, Herbi Júnior Pereira,
%E Barbosa, ivan Márcio,
%E Tenório, Plínio Ivo Gama,
%E Toledo, Rafael Cardoso,
%E Pereira, Yuri Matheus Dias,
%B Workshop em Engenharia e Tecnologia Espaciais, 9 (WETE)
%C São José dos Campos
%8 15-16 ago. 2018
%I Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
%J São José dos Campos
%S Anais
%1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
%K Magnetron sputtering, Descarga de catodo oco, Sensores ionosféricos, Filmes Finos de ouro.
%X As propriedades mecânicas e elétricas do alumínio tornam-no boa opção para integrar sistemas espaciais, porém, no ambiente espacial, a incidência de radiação e a alta concentração de oxigênio atômico contribuem para a degradação superficial de tais componentes, inviabilizando determinadas aplicações. Sensores ionosféricos de alumínio são dispostos em regiões externas de satélites com o objetivo de coletar íons e elétrons do plasma ionosférico para determinar parâmetros como densidade, temperatura e potencial elétrico do plasma. Em meio à degradação superficial do alumínio no espaço, o recobrimento destes sensores com uma camada fina de ouro surge como opção protetiva contra a severa oxidação no espaço. Técnicas de deposição química comumente utilizadas têm apresentado falhas na adesão, principalmente nas regiões das juntas de soldagem destes sensores provocando a delaminação dos filmes. Com o objetivo de maximizar a adesão do ouro sobre o alumínio, este trabalho avaliou a aderência de filmes depositados por um sistema híbrido de deposição que associa implantação iônica por imersão em plasma, descarga secundária de catodo oco e pulverização catódica (magnetron sputtering). Neste processo, o magnetron sputtering fornece os átomos pulverizados de ouro para a formação do filme. Durante o trajeto de deposição estes átomos atravessam uma descarga secundária de alta densidade e participam de um processo colisional ionizante, assim, parte destes átomos são ionizados. Simultaneamente pulsos de alta tensão negativa são aplicados no substrato para que haja a implantação destes íons, favorecendo um ancoramento mecânico entre filme e substrato. Para efeito comparativo também foram depositados filmes finos de ouro somente por pulverização catódica e filmes de ouro sobre intercamadas de cromo. Análises de resistência ao riscamento por esclerometria e microscopia eletrônica de varredura mostram que os filmes depositados pelo sistema associado com descarga secundária são mais aderentes se comparado aos depositados somente por magnetron sputtering e, além disso, a intercamada de cromo somada à utilização da descarga secundária aumenta ainda mais a aderência do filme.
%9 Ciência e Tecnologia de Materiais e Controle
%@language pt
%3 10 - [Artigo] Fabricio Iusuti de Medeiros.pdf