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		<citationkey>SierraCoraTrav:2018:DeFiDi</citationkey>
		<title>Deposição de filmes de diamante policristalino CVD usando MPACVD</title>
		<format>On-line.</format>
		<year>2018</year>
		<secondarytype>PRE CN</secondarytype>
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		<author>Sierra, Gomez Javier,</author>
		<author>Corat, Evaldo José,</author>
		<author>Trava-Airoldi, Vladimir Jesus,</author>
		<group>CMS-ETES-SESPG-INPE-MCTIC-GOV-BR</group>
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		<editor>Santos, Walter Abrahão dos,</editor>
		<editor>Rodrigues, Italo Pinto,</editor>
		<editor>Lima, Jeanne Samara dos Santos,</editor>
		<editor>Rodrigues, Aline Castilho,</editor>
		<editor>Mateus, Dairo Antonio Cuellar,</editor>
		<editor>Moreira, Herbi Júnior Pereira,</editor>
		<editor>Barbosa, ivan Márcio,</editor>
		<editor>Tenório, Plínio Ivo Gama,</editor>
		<editor>Toledo, Rafael Cardoso,</editor>
		<editor>Pereira, Yuri Matheus Dias,</editor>
		<conferencename>Workshop em Engenharia e Tecnologia Espaciais, 9 (WETE)</conferencename>
		<conferencelocation>São José dos Campos</conferencelocation>
		<date>15-16 ago. 2018</date>
		<publisher>Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)</publisher>
		<publisheraddress>São José dos Campos</publisheraddress>
		<booktitle>Anais</booktitle>
		<organization>Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)</organization>
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		<keywords>Diamante CVD, MPACVD, Filmes finos e espessos, Plasma.</keywords>
		<abstract>O propósito deste trabalho foi o de levantar alguns parâmetros importantes para estudos de crescimento de diamante, grau monocristalino, para aplicações espaciais, nas áreas de microeletrônica e óptica. Filmes de diamante policristalino foram depositados pela técnica MPACVD (do inglês Microwave Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition) em substratos de silício e nióbio utilizando dois arranjos de porta-amostra. Uma fonte de potência de 6kW e um gerador de microondas de 2.45 GHz foram usados para ativar uma mistura gasosa de hidrogênio e metano na proporção 2% de CH4/H2. Usou-se potência de entrada entre 2.4  3.6 kW, temperatura de deposição 815 °C-1128 °C, 211 Torr de pressão durante 7h de crescimento. O controle da temperatura é feito com um pirômetro ótico de alta resolução de duas cores no faixa de 390 °C a 1300 °C. Os filmes obtidos foram caracterizados por microscopia eletrônica de varredura (FEG-MEV) e espectroscopia Raman.</abstract>
		<area>ETE</area>
		<type>Ciência e Tecnologia de Materiais e Controle</type>
		<language>pt</language>
		<targetfile>30 - [Artigo] JAVIER SIERRA GÓMEZ.pdf</targetfile>
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