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@InProceedings{SierraCoraTrav:2018:DeFiDi,
               author = "Sierra, Gomez Javier and Corat, Evaldo Jos{\'e} and 
                         Trava-Airoldi, Vladimir Jesus",
                title = "Deposi{\c{c}}{\~a}o de filmes de diamante policristalino CVD 
                         usando MPACVD",
            booktitle = "Anais...",
                 year = "2018",
               editor = "Santos, Walter Abrah{\~a}o dos and Rodrigues, Italo Pinto and 
                         Lima, Jeanne Samara dos Santos and Rodrigues, Aline Castilho and 
                         Mateus, Dairo Antonio Cuellar and Moreira, Herbi J{\'u}nior 
                         Pereira and Barbosa, ivan M{\'a}rcio and Ten{\'o}rio, 
                         Pl{\'{\i}}nio Ivo Gama and Toledo, Rafael Cardoso and Pereira, 
                         Yuri Matheus Dias",
         organization = "Workshop em Engenharia e Tecnologia Espaciais, 9. (WETE)",
            publisher = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
              address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
             keywords = "Diamante CVD, MPACVD, Filmes finos e espessos, Plasma.",
             abstract = "O prop{\'o}sito deste trabalho foi o de levantar alguns 
                         par{\^a}metros importantes para estudos de crescimento de 
                         diamante, grau monocristalino, para aplica{\c{c}}{\~o}es 
                         espaciais, nas {\'a}reas de microeletr{\^o}nica e {\'o}ptica. 
                         Filmes de diamante policristalino foram depositados pela 
                         t{\'e}cnica MPACVD (do ingl{\^e}s Microwave Plasma Assisted 
                         Chemical Vapor Deposition) em substratos de sil{\'{\i}}cio e 
                         ni{\'o}bio utilizando dois arranjos de porta-amostra. Uma fonte 
                         de pot{\^e}ncia de 6kW e um gerador de microondas de 2.45 GHz 
                         foram usados para ativar uma mistura gasosa de hidrog{\^e}nio e 
                         metano na propor{\c{c}}{\~a}o 2% de CH4/H2. Usou-se 
                         pot{\^e}ncia de entrada entre 2.4 3.6 kW, temperatura de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o 815 °C-1128 °C, 211 Torr de press{\~a}o 
                         durante 7h de crescimento. O controle da temperatura {\'e} feito 
                         com um pir{\^o}metro {\'o}tico de alta resolu{\c{c}}{\~a}o de 
                         duas cores no faixa de 390 °C a 1300 °C. Os filmes obtidos foram 
                         caracterizados por microscopia eletr{\^o}nica de varredura 
                         (FEG-MEV) e espectroscopia Raman.",
  conference-location = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
      conference-year = "15-16 ago. 2018",
                 issn = "2177-3114",
             language = "pt",
         organisation = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)",
                  ibi = "8JMKD3MGPDW34R/3S2EMM5",
                  url = "http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGPDW34R/3S2EMM5",
           targetfile = "30 - [Artigo] JAVIER SIERRA G{\'O}MEZ.pdf",
                 type = "Ci{\^e}ncia e Tecnologia de Materiais e Controle",
        urlaccessdate = "19 abr. 2024"
}


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