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REIS, J. C. N.; BELOTO, A. F.; UEDA, M. Annealing effects in samples of silicon implanted with helium by plasma immersion ion implantation (PIII). In: EUROPEAN CONFERENCE ON ACCELERATORS IN APPLIED RESEARCH AND TECHNOLOGY, 8. (ECAART), (campo ausente ou vazio: 'date') Paris, França. (campo ausente ou vazio: 'booktitle') 2004.
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... como proposto por Reis, Beloto e Ueda (2004).
... pode ser encontrada na literatura (REIS; BELOTO; UEDA, 2004).