@TechReport{SilvaTrav:2017:OtPaDe,
               author = "Silva, Bruna Henrique da and Trava Airoldi, Vladimir Jesus",
                title = "Otimiza{\c{c}}{\~a}o dos par{\^a}metros de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o de filmes de DLC (Diamond Like Carbon) como 
                         fun{\c{c}}{\~a}o da polariza{\c{c}}{\~a}o e largura do pulso 
                         em superf{\'{\i}}cie Ti6Al4V",
          institution = "Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais",
                 year = "2017",
                 type = "RPQ",
              address = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos",
                 note = "{Bolsa PIBIC/INPE/CNPq}",
             keywords = "filmes de DLC, Ti6Al4V.",
             abstract = "O grande interesse na utiliza{\c{c}}{\~a}o de filmes de carbono 
                         tipo diamante (DLC) {\'e} justificado devido {\`a}s suas 
                         not{\'a}veis propriedades mec{\^a}nicas e tribol{\'o}gicas, 
                         como alta dureza, elevada resist{\^e}ncia ao desgaste, 
                         in{\'e}rcia qu{\'{\i}}mica, e baix{\'{\i}}ssimo coeficiente 
                         de atrito. Essa combina{\c{c}}{\~a}o de propriedades singulares 
                         confere ao revestimento aplica{\c{c}}{\~o}es nas mais diversas 
                         {\'a}reas. No entanto, o elevado n{\'{\i}}vel de tens{\~o}es 
                         compressivas, que se originam durante o crescimento do filme, 
                         dificulta a obten{\c{c}}{\~a}o de alta ader{\^e}ncia. O 
                         objetivo deste trabalho est{\'a} centrado na obten{\c{c}}{\~a}o 
                         de uma rela{\c{c}}{\~a}o clara dos par{\^a}metros de descarga e 
                         gera{\c{c}}{\~a}o do plasma em fun{\c{c}}{\~a}o da 
                         varia{\c{c}}{\~a}o dos valores de alta tens{\~a}o de 
                         polariza{\c{c}}{\~a}o e largura de pulso em substratos de liga 
                         de Tit{\^a}nio (Ti6Al4V), geralmente muito usada em 
                         aplica{\c{c}}{\~o}es espaciais e industriais. Para a 
                         obten{\c{c}}{\~a}o dos resultados utilizou-se a t{\'e}cnica de 
                         deposi{\c{c}}{\~a}o de filmes finos por deposi{\c{c}}{\~a}o 
                         qu{\'{\i}}mica a vapor assistida por plasma, PECVD (Plasma 
                         Chemical Enhanced Vapor Deposition), esta se destaca devido a 
                         algumas particularidades. Esse processo {\'e} limpo, seco, 
                         r{\'a}pido, relativamente barato e de f{\'a}cil 
                         execu{\c{c}}{\~a}o. Com isso proporciona materiais uniformes, 
                         homog{\^e}neos, livres de defeitos e com propriedades fortemente 
                         dependentes dos par{\^a}metros de deposi{\c{c}}{\~a}o. Os 
                         filmes obtidos foram caracterizados pelas t{\'e}cnicas de 
                         Perfilometria {\'o}ptica e ensaios tribol{\'o}gicos que 
                         avaliaram a qualidade e ades{\~a}o ao substrato utilizado.",
          affiliation = "{} and {Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)}",
             language = "pt",
                pages = "15",
                  ibi = "8JMKD3MGP3W34R/42L26MH",
                  url = "http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W34R/42L26MH",
           targetfile = "silva_otimizacao.pdf",
        urlaccessdate = "26 abr. 2024"
}