@InProceedings{SilvaBald:2015:EsFiDi,
author = "Silva, Belchior Elton Lima da and Baldan, Maur{\'{\i}}cio
Ribeiro",
affiliation = "{} and {Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)}",
title = "Estudo de filmes de diamante dopados com boro com
varia{\c{c}}{\~a}o de arg{\^o}nio",
year = "2015",
organization = "Semin{\'a}rio de Inicia{\c{c}}{\~a}o Cient{\'{\i}}fica do
INPE (SICINPE)",
note = "{Bolsa PIBIC/INPE/CNPq}",
abstract = "Devido ao seu conjunto de propriedades, o diamante {\'e} uma das
formas s{\'o}lidas cristalinas mais interessantes que podem ser
encontradas na natureza. No entanto, sua baixa disponibilidade faz
com que seu custo seja consideravelmente elevado, o que
inviabiliza seu uso em determinadas aplica{\c{c}}{\~o}es
industriais. Uma solu{\c{c}}{\~a}o para esse problema {\'e} a
produ{\c{c}}{\~a}o de filmes de diamante de maneira
sint{\'e}tica, pois esse processo diminui o custo do material
final e possibilita a engenharia de suas propriedades. Este
trabalho, iniciado em agosto de 2014, tem como objetivo a
produ{\c{c}}{\~a}o de filmes de diamante sob atmosferas com
diferentes concentra{\c{c}}{\~o}es de g{\'a}s Arg{\^o}nio, de
modo que se possa compreender o efeito desse elemento nas
propriedades finais do material. Ap{\'o}s a s{\'{\i}}ntese da
primeira s{\'e}rie de filmes, ser{\'a} produzido um segundo
conjunto de amostras sob as mesmas condi{\c{c}}{\~o}es, tendo
como diferencial uma dopagem estrutural a partir de uma
solu{\c{c}}{\~a}o de Boro. Espera-se que a dopagem tenha uma
influ{\^e}ncia consider{\'a}vel nas propriedades
eletroqu{\'{\i}}micas das amostras, sendo que as mesmas
ser{\~a}o caracterizadas por meio da Espectroscopia RAMAN, da
Microscopia Eletr{\^o}nica de Varredura e da Espectroscopia de
Fotoel{\'e}trons excitados por Raio-X. O trabalho se iniciou com
um estudo do ambiente no interior do reator de crescimento,
buscando-se determinar condi{\c{c}}{\~o}es que tornassem
poss{\'{\i}}vel a obten{\c{c}}{\~a}o de filmes espessos e
homog{\^e}neos. Os filmes foram obtidos pela t{\'e}cnica HFCVD
(Hot Filament Chemical Vapor Deposition), utilizando um substrato
de Tit{\^a}nio com {\'a}rea de 1 cm² e uma atmosfera gasosa
formada por 1% de CH4 e 99% de H2. Foram realizados testes
variando-se a temperatura na superf{\'{\i}}cie do substrato (650
750 °C), dist{\^a}ncia entre o filamento de aquecimento e a
amostra (3 5 mm), tipo de prepara{\c{c}}{\~a}o e limpeza das
amostras (Deposi{\c{c}}{\~a}o por ranhuras ou por
atra{\c{c}}{\~a}o eletrost{\'a}tica) e dist{\^a}ncia entre a
alimenta{\c{c}}{\~a}o dos gases e o substrato de tit{\^a}nio (2
4 cm). As amostras mais homog{\^e}neas foram produzidas em uma
temperatura de 715 °C, mantendo-se uma dist{\^a}ncia entre os
filamentos e os substratos de 5mm. O tipo de preparo da amostra
n{\~a}o teve influ{\^e}ncia consider{\'a}vel nas propriedades
finais do filme, tendo em vista que n{\~a}o houve uma
varia{\c{c}}{\~a}o relevante na sua morfologia. Desse modo,
est{\~a}o sendo produzidas amostras com varia{\c{c}}{\~a}o na
concentra{\c{c}}{\~a}o de Arg{\^o}nio utilizando os
par{\^a}metros ideais obtidos inicialmente. Para continuidade do
projeto, espera-se caracterizar a quantidade de portadores dos
filmes e estudar sua varia{\c{c}}{\~a}o morfol{\'o}gica e
estrutural.",
conference-location = "S{\~a}o Jos{\'e} dos Campos, SP",
label = "self-archiving-INPE-MCTIC-GOV-BR",
language = "pt",
targetfile = "Silva_estudo.pdf",
urlaccessdate = "11 maio 2024"
}