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Data e hora local de busca: 03/06/2024 23:20.

Study of the optimal deposition parameters of DLC films by means of the PECVD technique with additional cathode
Taiariol, T. S.; Mitma Pillaca, E. J. D.; Gutierrez Bernal, J. M.; Trava-Airoldi, V. J.
Artigo em Evento - sem Qualis - 2018 - Como citar? - BibTeX - Atualizar - Similaridade: 1.00

Influence of the deposition parameters on the properties of a-C:H coatings deposited on AISI 316 using a modified pulsed-DC PECVD technique with an active screen as an additional cathode
Capote Sánchez, A.; Capote, G.; Corat, E. J.; Trava-Airoldi, V. J.
Artigo em Evento - sem Qualis - 2022 - Como citar? - BibTeX - acessar - Atualizar - Similaridade: 0.30