| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Livro ou Monografia (Book) |
| Site | mtc-m16.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZsFDuKxG/EfCxE |
| Repositório | sid.inpe.br/marciana/2004/11.23.13.59 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2004:11.24.02.00.00 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/marciana/2004/11.23.13.59.34 |
| Última Atualização dos Metadados | 2022:11.08.22.18.43 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE-11528-NTC/367 |
| Rótulo | self-archiving-INPE-MCTIC-GOV-BR |
| Chave de Citação | HenriqueUeda:2004:PrFoDC |
| Título | Projeto de uma fonte DC para produção de plasma aplicado em tratamento de materiais  |
| Projeto | Implantação Iônica por Imersão em Plasma (IIIP) |
| Ano | 2004 |
| Data de Acesso | 20 abr. 2024 |
| Tipo Secundário | NTC |
| Número de Páginas | 38 |
| Número de Arquivos | 79 |
| Tamanho | 3136 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Henrique, Talyta da Silva 2 Ueda, Mário |
| Identificador de Curriculo | 1 2 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB |
| Grupo | 1 LAP-INPE-MCT-BR 2 LAP-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP) |
| Editor | Henrique, Talyta da Silva Ueda, Mário |
| Endereço de e-Mail | ueda@plasma.inpe.br |
| Editora (Publisher) | INPE |
| Cidade | São José dos Campos |
| Histórico (UTC) | 2004-11-24 13:36:07 :: jefferson -> administrator :: 2006-09-29 03:24:47 :: administrator -> jefferson :: 2008-01-14 11:30:01 :: jefferson -> administrator :: 2018-06-05 01:21:08 :: administrator -> marciana :: 2004 2020-03-04 17:18:10 :: marciana -> sergio :: 2004 2020-03-04 17:20:23 :: sergio -> administrator :: 2004 2022-11-08 22:18:43 :: administrator -> sergio :: 2004 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Palavras-Chave | PLASMA Fonte DC Descarga glow Implantação iônica por imersão em plasma PLASMA DC generators Glow discharges Plasma immersion ion implantation |
| Resumo | Neste trabalho, descrevemos o projeto e a construção de uma fonte de 1,4 kV e 2,5 A. Esta fonte DC é alimentada pela rede CA 220V, 60Hz sendo a tensão de saída, e depois esta é filtrada por um banco de capacitores. A fonte de corrente contínua (CC) servirá para formação de plasma por descarga glow , que será aplicado em tratamentos de materiais usando a técnica de implantação iônica tridimensional ou implantação iônica por imersão em plasma (IIIP). Aplicando-se uma diferença de potencial de cerca de 400 a 900V entre o eletrodo e a parede da câmara, forma-se uma descarga glow de alta intensidade. Para auxiliar o início do plasma, um filamento aquecido produz a ionização inicial do gás. Os elétrons colidem com as moléculas neutras do gás e assim forma-se o plasma. O plasma é conhecido como o quarto estado da matéria. Ele é criado quando um gás é superaquecido e os elétrons causam a ionização dos átomos, deixando partículas eletricamente carregadas. Uma condição essencial para o plasma é que ele seja quase completamente neutro. Uma das características é a interação muito forte de suas cargas positivas e negativas o que resulta em uma variedade de propriedades coletivas como ondas eletromagnéticas, ele pode surgir a temperaturas relativamente baixas de acordo com a composição do gás. A chama de uma vela e a luminescência de uma lâmpada fluorescente são alguns exemplos. O plasma aparece naturalmente no espaço interestelar e em atmosferas do sol e das outras estrelas. Porém, ele também pode ser criado em laboratório. Para ser realizada uma experiência de implantação iônica tridimensional ou IIIP, temos disponível no laboratório do INPE: um sistema de vácuo que consiste de uma bomba mecânica e uma difusora; uma câmara de aço inox aterrada que possui várias janelas para diversas saídas como um eletrodo metálico onde é aplicada a tensão da fonte que forma o plasma; as entradas para injeção dos gases (que serão utilizados na produção do plasma), as dos pulsos de alta tensão, do filamento (emissor de elétrons) e do sistema de vácuo. A conjunção de todos estes sistemas independentes funcionando adequadamente, incluindo a fonte CC aqui descrita, é que possibilita a realização plena de tratamentos superficiais em materiais diversos. |
| Área | FISPLASMA |
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Projeto de uma... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | pt |
| Arquivo Alvo | paginadeacesso.html |
| Grupo de Usuários | administrator jefferson sergio |
| Grupo de Leitores | administrator sergio |
| Visibilidade | shown |
| Detentor dos Direitos | originalauthor yes locatedauthor no |
| Detentor da Cópia | SID/SCD |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| Permissão de Atualização | não transferida |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
| Divulgação | NTRSNASA; BNDEPOSITOLEGAL. |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | archivingpolicy archivist callnumber contenttype copyright creatorhistory descriptionlevel doi edition electronicmailaddress format isbn issn lineage mark mirrorrepository nextedition notes numberofvolumes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress schedulinginformation secondarydate secondarymark serieseditor seriestitle session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype translator url versiontype volume |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | sergio |
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