1. Identificação | |
Tipo de Referência | Tese ou Dissertação (Thesis) |
Site | mtc-m21b.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | 8JMKD3MGP3W34P/3HSNQLL |
Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21b/2015/02.04.12.48 |
Última Atualização | 2015:10.27.13.40.29 (UTC) simone |
Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21b/2015/02.04.12.48.36 |
Última Atualização dos Metadados | 2018:07.31.15.54.48 (UTC) simone |
Chave Secundária | INPE-17509-TDI/2291 |
Chave de Citação | Araújo:2015:OtSiIm |
Título | Otimização de um sistema de implantação iônica por plasma de grande volume e alta potência |
Título Alternativo | Optimization of a plasma ion implantation system of large chamber volume and high power |
Curso | CMS-ETES-SPG-INPE-MCTI-GOV-BR |
Ano | 2015 |
Data | 2015-02-24 |
Data de Acesso | 23 abr. 2024 |
Tipo da Tese | Dissertação (Mestrado em Ciência e Tecnologia de Materiais e Sensores) |
Tipo Secundário | TDI |
Número de Páginas | 129 |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 2638 KiB |
|
2. Contextualização | |
Autor | Araújo, Michel Felipe Lima de |
Banca | Ueda, Mario (presidente/orientador) Mello, Carina Barros (orientador) Berni, Luiz Angelo Silva, Maria Margareth da |
Endereço de e-Mail | michellfisico@hotmail.com |
Universidade | Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Cidade | São José dos Campos |
Histórico (UTC) | 2015-02-04 12:50:35 :: michellfisico@hotmail.com -> yolanda :: 2015-02-04 14:31:50 :: yolanda -> michellfisico@hotmail.com :: 2015-02-05 11:59:12 :: michellfisico@hotmail.com -> administrator :: 2015-02-06 02:29:17 :: administrator -> michellfisico@hotmail.com :: 2015-02-10 11:56:56 :: michellfisico@hotmail.com -> yolanda :: 2015-03-09 13:56:50 :: yolanda -> michellfisico@hotmail.com :: 2015-03-09 14:32:29 :: michellfisico@hotmail.com -> yolanda :: 2015-06-15 13:43:09 :: yolanda -> marcelo.pazos@sid.inpe.br :: 2015-06-15 18:41:20 :: marcelo.pazos@sid.inpe.br :: -> 2015 2015-06-15 18:44:25 :: marcelo.pazos@sid.inpe.br -> administrator :: 2015 2015-10-27 12:39:05 :: administrator -> marcelo.pazos@sid.inpe.br :: 2015 2015-10-27 13:41:32 :: marcelo.pazos@sid.inpe.br -> administrator :: 2015 2015-11-23 11:47:11 :: administrator -> yolanda :: 2015 2015-11-23 11:57:59 :: yolanda -> administrator :: 2015 2018-06-04 02:55:14 :: administrator -> yolanda.souza@mcti.gov.br :: 2015 2018-07-31 15:54:31 :: yolanda.souza@mcti.gov.br -> simone :: 2015 2018-07-31 15:54:48 :: simone -> :: 2015 |
|
3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Palavras-Chave | plasma grande volume alta potência large-volume high power |
Resumo | Este trabalho consiste no estudo da otimização de um sistema de implantação iônica por plasma de grande volume e alta potência. A câmara de vácuo utilizada possui um volume elevado (600 litros) que, por sua vez, facilita o tratamento de peças maiores comumente utilizadas na indústria e, até mesmo, como no caso deste dispositivo, o tratamento em batelada de peças que formam os componentes espaciais de um satélite. A otimização foi realizada com os sucessíveis ajustes dos seguintes parâmetros de processamento 3IP, tais como: largura de pulso, frequência, pressão de trabalho e corrente no primário do transformador de pulso da fonte de alta tensão. Dentre uma gama de ajustes, os três que apresentaram melhores valores de corrente e tensão no suporte foram escolhidos para serem aplicados na fase de implantação, com suporte de geometria retangular e um ajuste com suporte de geometria cilíndrica (tubo). Os resultados mostraram que o aumento do tempo de tratamento e a posição do porta-amostras no interior da câmara, influenciam diretamente no tratamento. Em relação à implantação no interior do tubo, os resultados mostraram que esta ocorre de maneira não uniforme, porém há melhorias nas propriedades químicas e físicas de sua superfície interna. ABSTRACT: This work is about a study of the optimization of a plasma ion implantation system of large-volume and high power. The vacuum chamber used has a large volume (600 liters), which in turn facilitates the processing of large pieces commonly used in industrial applications and even, as in the case of this device, the batch processing of the space satellite components. The optimization was performed using the following settings of PIII processing parameters, such as pulse width, frequency, working gas pressure and current in the primary of the high voltage pulser. Among a range of settings, three important cases that presented better current and voltage values in support were chosen to be applied in the implantation phase, using rectangular geometry support and a hollow cylindrical geometry one. The measurements carried out in samples show that the increase in treatment time and the sample support position inside the chamber directly influence the treatment results. In relation to treatments within the tube, the results showed that implantation in its interior is non-uniform; however there are improvements in chemical and physical properties of its inner surface. |
Área | ETES |
Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção pgr ATUAIS > CMS > Otimização de um... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | @4primeirasPaginas.pdf | 04/05/2015 14:58 | 149.5 KiB | Avaliação final pagina 2 do aluno Michel Felipe Lima de Araujo.pdf | 22/04/2015 16:51 | 19.9 KiB | Dissertacao-FINAL-Biblioteca - Copia-Final.pdf | 26/10/2015 16:23 | 2.6 MiB | Dissertacao_com Marcas.docx | 23/04/2015 16:31 | 7.0 MiB | |
Conteúdo da Pasta agreement | |
|
4. Condições de acesso e uso | |
URL dos dados | http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W34P/3HSNQLL |
URL dos dados zipados | http://urlib.net/zip/8JMKD3MGP3W34P/3HSNQLL |
Idioma | pt |
Arquivo Alvo | publicacao.pdf |
Grupo de Usuários | administrator marcelo.pazos@inpe.br michellfisico@hotmail.com simone yolanda.souza@mcti.gov.br |
Grupo de Leitores | administrator marcelo.pazos@inpe.br michellfisico@hotmail.com yolanda.souza@mcti.gov.br |
Visibilidade | shown |
Licença de Direitos Autorais | urlib.net/www/2012/11.12.15.10 |
Detentor da Cópia | SID/SCD |
Permissão de Leitura | allow from all |
Permissão de Atualização | não transferida |
|
5. Fontes relacionadas | |
Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.22 |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3F358GL |
Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20 |
|
6. Notas | |
Campos Vazios | academicdepartment affiliation archivingpolicy archivist callnumber contenttype creatorhistory descriptionlevel dissemination doi electronicmailaddress format group isbn issn label lineage mark nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url versiontype |
|