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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Evento (Conference Proceedings)
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP3W34P/3M9LH82
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.16.18.00
Repositório de Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.16.18.00.40
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.02.41.01 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE--PRE/
Chave de CitaçãoChiappimTesPesFraMac:2016:EfDiPl
TítuloPlasma-assisted atomic layer deposition of TiO2 thin films: effect of direct plasma exposure during deposition on film structure and morphology
Ano2016
Data de Acesso23 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE CI
2. Contextualização
Autor1 Chiappim, William
2 Testoni, Georgio Ernesto
3 Pessoa, Rodrigo Sávio
4 Fraga, Mariana Amorim
5 Maciel, Homero Santiago
Grupo1
2
3
4 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
2 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
3 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
5 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
Endereço de e-Mail do Autor1
2
3
4 mariana.fraga@inpe.br
Nome do EventoInternational Conference on Advanced Nanomaterials, 7
Localização do EventoAveiro, Portugal
Data25-27 July
Histórico (UTC)2016-08-16 18:02:08 :: simone -> administrator :: 2016
2018-06-04 02:41:01 :: administrator -> simone :: 2016
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
ResumoThe titanium dioxide (TiO2) has a wide range of applications both as thin film or bulk material due to many attractive properties such as wide band gap, high dielectric constant, and photocatalytic activity. As thin film several applications can be cited as photovoltaics and sensors [1]. Recent studies have shown that modification of stoichiometry, crystalline structure, morphology and, consequently, the optical/electrical properties of TiO2 films can be finely tuned by appropriately altering plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process parameters, e.g. plasma power, gas flow rate and pressure and plasma exposure (direct or remote plasma) [2]. In this work, we report about the effect of direct plasma exposure during deposition on film structure and morphology of PEALD TiO2 thin films using TiCl4 precursor. For this, a remote capacitively coupled 13.56 MHz oxygen plasma was used as co-reactant during ALD process and the plasma power was varied from 50 W to 200 W for a fixed process temperature of 250 ºC. In order to improve the discussions, thermal ALD of TiO2 films were performed at similar process conditions.
ÁreaFISMAT
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Plasma-assisted atomic layer...
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Conteúdo da Pasta agreement
agreement.html 16/08/2016 15:00 1.0 KiB 
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Grupo de Usuáriossimone
Grupo de Leitoresadministrator
simone
Visibilidadeshown
Permissão de Leituraallow from all
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Repositório Espelhourlib.net/www/2011/03.29.20.55
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
6. Notas
Campos Vaziosarchivingpolicy archivist booktitle callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination doi e-mailaddress edition editor format isbn issn keywords label lineage mark nextedition notes numberoffiles numberofvolumes orcid organization pages parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project publisher publisheraddress resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark serieseditor session shorttitle size sponsor subject targetfile tertiarymark tertiarytype type url versiontype volume
7. Controle da descrição
e-Mail (login)simone
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m21b.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP3W34P/3MA6RCP
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.19.18.44   (acesso restrito)
Última Atualização2016:08.19.18.45.56 (UTC) simone
Repositório de Metadadossid.inpe.br/mtc-m21b/2016/08.19.18.44.34
Última Atualização dos Metadados2018:06.04.02.41.03 (UTC) administrator
DOI10.1088/0957-4484/27/30/305701
ISSN0957-4484
Chave de CitaçãoChiappimTDPFGGVM:2016:InO2Pl
TítuloRelationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode
Ano2016
MêsJuly
Data de Acesso23 abr. 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho3538 KiB
2. Contextualização
Autor1 Chiappim, William
2 Testoni, Georgio Ernesto
3 Doria, A. C. O. C.
4 Pessoa, R. S.
5 Fraga, Mariana Amorim
6 Galvão, N. K. A. M.
7 Grigorov, K. G.
8 Vieira, L.
9 Maciel, H. S.
Grupo1
2
3
4
5 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação1 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
2 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
3 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
4 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
6 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
7 Space Research and Technology Institute
8 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
9 Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
Endereço de e-Mail do Autor1
2
3
4
5 mariana.fraga@inpe.br
RevistaNanotechnology
Volume27
Número30
Páginas305701
Nota SecundáriaA1_QUÍMICA A1_ODONTOLOGIA A1_MEDICINA_I A1_MATERIAIS A1_INTERDISCIPLINAR A1_FARMÁCIA A1_ENGENHARIAS_III A1_ENGENHARIAS_II A2_MEDICINA_II A2_ENGENHARIAS_IV A2_CIÊNCIAS_BIOLÓGICAS_II A2_CIÊNCIAS_BIOLÓGICAS_I B1_ASTRONOMIA_/_FÍSICA B2_ENSINO
Histórico (UTC)2016-08-19 18:44:34 :: simone -> administrator ::
2016-08-19 18:44:34 :: administrator -> simone :: 2016
2016-08-19 18:45:57 :: simone -> administrator :: 2016
2018-06-04 02:41:03 :: administrator -> simone :: 2016
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveBrazilian MRS
plasma-enhanced atomic layer deposition
titanium dioxide
x-ray diffraction
morphology
RBS
ResumoTitanium dioxide (TiO2) thin films have generated considerable interest over recent years, because they are functional materials suitable for a wide range of applications. The efficient use of the outstanding functional properties of these films relies strongly on their basic characteristics, such as structure and morphology, which are affected by deposition parameters. Here, we report on the influence of plasma power and precursor chemistry on the growth kinetics, structure and morphology of TiO2 thin films grown on Si(100) by plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD). For this, remote capacitively coupled 13.56 MHz oxygen plasma was used to act as a co-reactant during the ALD process using two different metal precursors: titanium tetrachloride (TiCl4) and titanium tetraisopropoxide (TTIP). Furthermore, we investigate the effect of direct plasma exposure during the co-reactant pulse on the aforementioned material properties. The extensive characterization of TiO2 films using Rutherford backscattering spectroscopy, ellipsometry, x-ray diffraction (XRD), field-emission scanning electron microscopy, and atomic force microscopy (AFM) have revealed how the investigated process parameters affect their growth per cycle (GPC), crystallization and morphology. The GPC tends to increase with plasma power for both precursors, however, for the TTIP precursor, it starts decreasing when the plasma power is greater than 100 W. From XRD analysis, we found a good correlation between film crystallinity and GPC behavior, mainly for the TTIP process. The AFM images indicated the formation of films with grain size higher than film thickness (grain size/film thickness ratio approximate to 20) for both precursors, and plasma power analysis allows us to infer that this phenomenon can be directly related to the increase of the flux of energetic oxygen species on the substrate/growing film surface. Finally, the effect of direct plasma exposure on film structure and morphology was evidenced showing that the grid removal causes a drastic reduction in the grain size, particularly for TiO2 synthesized using TiCl4.
ÁreaFISMAT
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Relationships among growth...
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Conteúdo da Pasta agreement
agreement.html 19/08/2016 15:44 1.0 KiB 
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvochiappim_relationships.pdf
Grupo de Usuáriossimone
Grupo de Leitoresadministrator
simone
Visibilidadeshown
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft12
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Repositório Espelhourlib.net/www/2011/03.29.20.55
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2013/09.24.19.30 4
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn label lineage mark nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
7. Controle da descrição
e-Mail (login)simone
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m21d.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador8JMKD3MGP3W34T/49H54AH
Repositóriosid.inpe.br/mtc-m21d/2023/07.28.13.28   (acesso restrito)
Última Atualização2023:07.28.13.28.57 (UTC) simone
Repositório de Metadadossid.inpe.br/mtc-m21d/2023/07.28.13.28.57
Última Atualização dos Metadados2024:01.02.17.16.45 (UTC) administrator
DOI10.3390/plasma6020025
ISSN2571-6182
Chave de CitaçãoGodoy-JrPDHGLMBMPS:2023:InHoCa
TítuloTailoring Black TiO2 Thin Films: Insights from Hollow Cathode Hydrogen Plasma Treatment Duration
Ano2023
MêsJune
Data de Acesso23 abr. 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho6618 KiB
2. Contextualização
Autor 1 Godoy-Junior, Armstrong
 2 Pereira, André
 3 Damasceno, Bárbara
 4 Horta, Isabela
 5 Gomes, Marcilene
 6 Leite, Douglas
 7 Miyakawa, Walter
 8 Baldan, Maurício Ribeiro
 9 Massi, Marcos
10 Pessoa, Rodrigo
11 Silva Sobrinho, Argemiro da
Identificador de Curriculo 1
 2
 3
 4
 5
 6
 7
 8 8JMKD3MGP5W/3C9JHTA
ORCID 1 0000-0002-6633-9854
 2 0000-0003-4757-8080
 3 0000-0002-6284-6939
 4 0000-0003-1324-4162
 5
 6
 7 0000-0003-1172-3071
 8
 9 0000-0002-7117-8039
10 0000-0001-7600-9747
11 0000-0001-7227-9176
Grupo 1
 2
 3
 4
 5
 6
 7
 8 COPDT-CGIP-INPE-MCTI-GOV-BR
Afiliação 1 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
 2 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
 3 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
 4 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
 5 Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia de São Paulo (IFSP)
 6 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
 7
 8 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
 9 Universidade Presbiteriana Mackenzie
10 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
11 Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA)
Endereço de e-Mail do Autor 1 godoyajr@gmail.com
 2 andreljpereira@gmail.com
 3 barbdara@gmail.com
 4 isabelah1@poli.ufrj.br
 5 marcilenecgomes@ifsp.edu.br
 6 leite@ita.br
 7 walter.toshi@gmail.com
 8 mauricio.baldan@inpe.br
 9 massi.marcos@gmail.com
10 rspessoa@ita.br
11 argemiro@ita.br
RevistaPlasma
Volume6
Número2
Páginas362-378
Histórico (UTC)2023-07-28 13:30:04 :: simone -> administrator :: 2023
2024-01-02 17:16:45 :: administrator -> simone :: 2023
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chaveblack TiO2
hollow cathode
hydrogen plasma
hydrogenation
photocatalysis
ResumoIn this study, we report the use of a radiofrequency plasma-assisted chemical vapor deposition (RF-CVD) system with a hollow cathode geometry to hydrogenate anatase TiO2 thin films. The goal was to create black TiO2 films with improved light absorption capabilities. The initial TiO2 was developed through magnetron sputtering, and this study specifically investigated the impact of hollow cathode hydrogen plasma (HCHP) treatment duration on the crucial characteristics of the resulting black TiO2 films. The HCHP treatment effectively created in-bandgap states in the TiO2 structure, leading to enhanced light absorption and improved conductivity. Morphological analysis showed a 24% surface area increase after 15 min of treatment. Wettability and surface energy results displayed nonlinear behavior, highlighting the influence of morphology on hydrophilicity improvement. The anatase TiO2 phase remained consistent, as confirmed by diffractograms. Raman analysis revealed structural alterations and induced lattice defects. Treated samples exhibited outstanding photodegradation performance, removing over 45% of methylene blue dye compared to similar to 25% by the pristine TiO2 film. The study emphasized the significant impact of 15-min hydrogenation on the HCHP treatment. The research provided valuable insights into the role of hydrogenation time using the HCHP treatment route on anatase TiO2 thin films and demonstrated the potential of the produced black TiO2 thin films for photocatalytic applications.
ÁreaFISMAT
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção a partir de 2021 > CGIP > Tailoring Black TiO2...
Conteúdo da Pasta docacessar
Conteúdo da Pasta sourcenão têm arquivos
Conteúdo da Pasta agreement
agreement.html 28/07/2023 10:28 1.0 KiB 
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvoplasma-06-00025.pdf
Grupo de Usuáriossimone
Grupo de Leitoresadministrator
simone
Visibilidadeshown
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/46KUES5
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2022/04.03.23.11 2
sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.56.32 2
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; SCOPUS.
Acervo Hospedeirourlib.net/www/2021/06.04.03.40
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
7. Controle da descrição
e-Mail (login)simone
atualizar