| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Evento (Conference Proceedings) |
| Site | plutao.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 8JMKD3MGP3W/3FCL894 |
| Repositório | sid.inpe.br/plutao/2013/12.12.16.12.29 |
| Última Atualização | 2014:01.17.10.42.34 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/plutao/2013/12.12.16.12.30 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.04.23.39.18 (UTC) administrator |
| ISBN | 978-1-4799-0516-4 |
| Rótulo | lattes: 5076862030728693 6 LibardiKRGUSiMaMaMa:2013:StElPe |
| Chave de Citação | LibardiKoGuSiMaMaMa:2013:StElPe |
| Título | High quality TiO2 deposited by reactive sputtering. Structural and electrical peculiarities influenced by the specific experimental conditions  |
| Ano | 2013 |
| Data de Acesso | 24 abr. 2024 |
| Tipo Secundário | PRE CI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 732 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Libardi, Juliano 2 Kornelly, Grigorov 3 Guerino, M. 4 Silva Sobrinho, Argemiro Soares da 5 Maciel, Homero Santiago 6 Machado, João Paulo Barros 7 Massi, Marcos |
| Identificador de Curriculo | 1 2 3 4 5 6 8JMKD3MGP5W/3C9JHER |
| Grupo | 1 2 3 4 5 6 LAS-CTE-INPE-MCTI-GOV-BR |
| Afiliação | 1 Phys. Dept., Technol. Inst. of Aeronaut. (ITA), São José dos Campos, Brazil 2 Technological Institute of Aeronautics (ITA), Physics Department, Sao Jose dos Campos-SP, Brazil; Space Research and Technology Institute, Acad. G .Bonchev Str. BI.1, 1113, Sofia, Bulgaria 3 Technological Institute of Aeronautics (ITA), Physics Department, Sao Jose dos Campos-SP, Brazil 4 5 Technological Institute of Aeronautics (ITA), Physics Department, Sao Jose dos Campos-SP, Brazil 6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 7 Federal University of Sao Paulo - ICT, Sao Jose dos Campos - SP, Brazil |
| Endereço de e-Mail do Autor | 1 2 3 4 5 6 joaopaulo@las.inpe.br |
| Endereço de e-Mail | joaopaulo@las.inpe.br |
| Nome do Evento | Symposium on Microelectronics Technology and Devices, (SBMicro). |
| Localização do Evento | Curitiba |
| Data | 2-6 Sept. 2013 |
| Volume | 1 |
| Páginas | 8-9 |
| Título do Livro | Proceedings |
| Histórico (UTC) | 2013-12-12 16:12:30 :: lattes -> administrator :: 2014-01-15 11:14:24 :: administrator -> marcelo.pazos@sid.inpe.br :: 2013 2014-01-17 10:42:34 :: marcelo.pazos@sid.inpe.br -> administrator :: 2013 2018-06-04 23:39:18 :: administrator -> marcelo.pazos@inpe.br :: 2013 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Tipo de Versão | publisher |
| Resumo | Titanium dioxide (TiO2) thin films were deposited on silicon p type (100) substrates by reactive magnetron sputtering technique at different oxygen partial pressures. The film structure was studied by X-Ray Diffraction (XRD), while the film composition was examined by Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS). Finally, Metal-Oxide Semiconductor (MOS) capacitors were manufactured and some important physical constants were analyzed as function of the oxygen content in the films. It was found that the films deposited at lower oxygen partial pressure exhibited better crystalline structure and higher dielectric constant. |
| Área | FISMAT |
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > High quality TiO2... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| URL dos dados | http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W/3FCL894 |
| URL dos dados zipados | http://urlib.net/zip/8JMKD3MGP3W/3FCL894 |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | 06676130.pdf |
| Grupo de Usuários | lattes marcelo.pazos@inpe.br |
| Grupo de Leitores | administrator marcelo.pazos@inpe.br |
| Visibilidade | shown |
| Permissão de Leitura | allow from all |
| Permissão de Atualização | não transferida |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Repositório Espelho | iconet.com.br/banon/2006/11.26.21.31 |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
| Acervo Hospedeiro | dpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | archivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination doi edition editor format issn keywords lineage mark nextedition notes numberofvolumes orcid organization parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project publisher publisheraddress rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey secondarymark serieseditor session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype type url |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marcelo.pazos@inpe.br |
| atualizar | |