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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemarte3.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zagPa
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2003/08.15.16.03   (acesso restrito)
Última Atualização2006:02.23.11.30.00 (UTC) marciana
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2003/08.15.16.03.19
Última Atualização dos Metadados2018:06.06.03.57.15 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-9889-PRE/5462
ISSN0093-3813
Chave de CitaçãoBarrosoRossUeda:2003:MoPlIm
TítuloModeling plasma immersion ion implantation under trapezoidal voltage pulses
ProjetoImplantação iônica por imersão em plasma (IIIP)
Ano2003
MêsFeb.
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho499 KiB
2. Contextualização
Autor1 Barroso, Joaquim José
2 Rossi, José Oswaldo
3 Ueda, Mário
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
2 LAP-INPE-MCT-BR
3 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais. Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais. Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais. Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
RevistaIEEE Transactions on Plasma Science
Volume31
Número1 Part 2
Páginas104-111
Histórico (UTC)2006-02-23 11:32:02 :: marciana -> administrator ::
2006-11-15 00:27:57 :: administrator -> marciana ::
2008-02-07 17:59:19 :: marciana -> administrator ::
2014-08-18 23:40:47 :: administrator -> marciana :: 2003
2014-08-19 13:46:47 :: marciana -> administrator :: 2003
2018-06-06 03:57:15 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChavePLASMA
Child law
Plasma immersion ion implantation (PIII)
Plasma sheath
PLASMA
Implantação iônica por imersão em plasma
ResumoIn plasma immersion ion implantation (PIII), ions are extracted from the plasma and implanted in a target subjected to high negative voltage pulses. PIII models assume that the uncovering of enough ions at the moving sheath edge establishes a space-charge-limited ion flow that supplies the ion implant current at the target. The present paper reexamines this assumption in one-dimensional planar geometry by relating the implant current at the target to the Child law current through a delay time function that properly accounts for the transit time of the ion through the sheath. Comparison of the total current calculated both at the target and at the leading edge of the sheath demonstrates that the model provides accurate results as long as the ion time scale is shorter than the characteristic times of the applied voltage wave-form.
ÁreaFISPLASMA
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Modeling plasma immersion...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo16.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
marciana
Grupo de Leitoresadministrator
marciana
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher allowfinaldraft
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; IEEEXplore.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemarte3.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zagBM
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.53   (acesso restrito)
Última Atualização2006:02.16.16.13.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.53.23
Última Atualização dos Metadados2018:06.06.03.57.15 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-9887-PRE/5460
ISSN0257-8972
Chave de CitaçãoTanUeDaRoBeAb:2003:MaPlIm
TítuloMagnesium plasma immersion ion implantation on silicon wafers
ProjetoImplantação iônica por imersão em plasma (IIIP)
Ano2003
MêsJune
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho697 KiB
2. Contextualização
Autor1 Tan, Ing Hwie
2 Ueda, Mário
3 Dallaqua, Renato Sérgio
4 Rossi, José Oswaldo
5 Beloto, Antonio Fernando
6 Abramof, Eduardo
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
2 LAP-INPE-MCT-BR
3 LAP-INPE-MCT-BR
4 LAP-INPE-MCT-BR
5 LAS-INPE-MCT-BR
6 LAS-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Mateiria e Sensores (INPE.LAS)
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Mateiria e Sensores (INPE.LAS)
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume169
Páginas379-383
Histórico (UTC)2006-02-16 16:13:28 :: marciana -> administrator ::
2007-05-15 13:48:50 :: administrator -> marciana ::
2008-01-14 15:34:17 :: marciana -> administrator ::
2018-06-06 03:57:15 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-ChavePLASMA
Metal plasma immersion ion implantation
Metal oxides
Macroparticle filtering
Vacuum arcs
Vacuum-arc plasma
Silicon
PLASMA
Implantação iônica por imersão em plasma metalico
Óxidos metálicos
Filtro de micropartículas
Vácuo
Silicone
ResumoMagnesium ions were implanted by plasma immersion ion implantation on Si wafers. The vacuum arc plasma gun has a straight configuration. and samples were biased from - 2 to - 8 kV with 20-mus pulses at 700 Hz, with or without a magnetic field of 150 G, with arc currents of 600 A. Three samples were positioned 85 cm away from the anode grid, one sample with its surface facing the plasma stream and perpendicular to B (frontal samples), while the others have surfaces parallel to the plasma stream and the magnetic field (lateral samples). High-resolution X-ray diffraction results showed that implantation occurred, as evidenced by distortion of the rocking curves obtained. Deposition with thickness of the order of 1 mum also occurred, but was considerably thinner for samples positioned parallel to the plasma stream. Lateral samples are also free of macroparticles, as shown by SEM observations. The presence of a magnetic field significantly increases the implanted current and the deposition thickness in frontal samples. since plasma density is increased by two orders of magnitude.
ÁreaFISPLASMA
Arranjo 1urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Magnesium plasma immersion...
Arranjo 2urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Magnesium plasma immersion...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
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Grupo de Usuáriosadministrator
marciana
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemarte3.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zagv4
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.47   (acesso restrito)
Última Atualização2006:03.07.13.18.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.47.50
Última Atualização dos Metadados2018:06.06.03.57.15 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-9886-PRE/5459
ISSN0168-583X
0167-5087
Chave de CitaçãoUedaTaDaRoCaTa:2003:AlPlIm
TítuloAluminum plasma immersion ion implantation in polymers
Ano2003
MêsMay
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho188 KiB
2. Contextualização
Autor1 Ueda, Mário
2 Tan, Ing Hwie
3 Dallaqua, Renato Sérgio
4 Rossi, José Oswaldo
5 Castro, Joaquim José Barroso de
6 Tabacniks, M. H.
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Inst Nacl Pesquisas Espaciais, Lab Assoc Plasmas, BR-12227010 Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil
RevistaNuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
Volume206
Páginas760-766
Histórico (UTC)2006-03-07 13:18:20 :: marciana -> administrator ::
2018-06-06 03:57:15 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-Chaveplasma immersion ion implantation
polymers
oxidation
vacuum arcs
ResumoAtomic oxygen (AO) degradation of polymer-based materials is a serious concern in long life satellites or space stations orbiting low Earth orbit environment. Protection against AO can be achieved by a thin metal oxide layer on the polymer's surface. Metal implantation followed by oxidation is a promising way of creating this layer with superior adhesion to the substrate. This work reports on the implantation of Kapton, Mylar, polypropylene and polyethylene samples with aluminum ions at 2.5, 5 and 7 kV, by plasma immersion in a vacuum arc plasma with a straight magnetic filter. With samples oriented with surfaces parallel to the plasma stream SEM and EDS analysis showed no macro-particle contamination and no significant changes in morphology after implantation. Rutherford backscattering spectroscopy showed retained doses of (1-3) x 10(16) cm(-2), with most of the aluminum concentrated on the surface. This is probably due to deposition of aluminum between high voltage pulses, and reduction in the sample's surface voltage due to surface charging.
ÁreaFISPLASMA
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Aluminum plasma immersion...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo58.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemarte3.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zagiF
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.37   (acesso restrito)
Última Atualização2006:02.16.15.55.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.38
Última Atualização dos Metadados2018:06.06.03.57.14 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-13535-PRE/8748
ISSN0257-8972
Chave de CitaçãoUedaSiOtReYaLeBe:2003:ImTrPr
TítuloImprovement of tribological properties of Ti6Al4V by nitrogen plasma immersion ion implantation
Ano2003
MêsJune
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho83 KiB
2. Contextualização
Autor1 Ueda, Mário
2 Silva, M. M.
3 Otani, C.
4 Reuther, H.
5 Yatsuzuka, M.
6 Lepienski, C. M.
7 Berni, Luiz Ângelo
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 nst Nacl Pesquisas Espaciais, Lab Associado Plasma, BR-12201 Sao Jose Dos Campos, SP, Brazil
2 Inst Tecnol Aeronaut, Dept Engn Mecan, Sao Jose Dos Campos, Brazil
3 Inst Tecnol Aeronaut, Dept Fis, Sao Jose Dos Campos, Brazil
4 Rossendorf Inc, Inst Ion Beam Phys & Mat Res, D-01314 Dresden, Germany
5 Himeji Inst Technol, Himeji, Hyogo 67122, Japan
6 Univ Fed Parana, Dept Fis, BR-80060000 Curitiba, Parana, Brazil
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume69
Páginas408-410
Histórico (UTC)2006-02-16 15:58:36 :: marciana -> administrator ::
2018-06-06 03:57:14 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-Chavetecnologia de plasma
plasma tecnology
plasma immersion ion implantation
titanium alloy
nitrogen implantation
three-dimensional ion implantation
nanohardness
industrial components
surface modification
ResumoPlasma immersion nitrogen implantation of Ti6Al4V (TAV) alloy was carried out to improve the surface tribological properties of test samples for artificial heart valves. Our results show that a good implantation with nitrogen peak concentration of 40% was achieved but with only approximately 50 nm implanted layer, after 60 min of treatment. Longer treatments showed no improvement in the retained dose, probably due to sputtering effects. However, both significant reduction of friction coefficient and increase in hardness was seen even for such a shallow implantation. Furthermore, the hardness improvement extended to regions much deeper than the implanted layer. Improvements of the wear resistance of such nitrogen implanted Ti alloy is expected, increasing considerably the useful lifetime of components made of TAV which is finding widespread use in biomedical and aerospace applications.
ÁreaFISPLASMA
ArranjoImprovement of tribological...
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Conteúdo da Pasta sourcenão têm arquivos
Conteúdo da Pasta agreementnão têm arquivos
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo62.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemarte3.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zafAt
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.05
Última Atualização2006:02.21.13.46.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.05.37
Última Atualização dos Metadados2018:06.06.03.57.14 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-9883-PRE/5456
DOI10.1063/1.1540717
ISSN0034-6748
Chave de CitaçãoBerniUeDeFeOlVi:2003:ThScSy
TítuloThomson scattering system for the diagnosis of the ETE spherical tokamak plasma
ProjetoPlasma de fusão: Tokamaks
Ano2003
MêsMar.
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho103 KiB
2. Contextualização
Autor1 Berni, Luiz Ângelo
2 Ueda, Mário
3 Del Bosco, Edson
4 Ferreira, Júlio Guimarães
5 Oliveira, Rogério de Moraes
6 Vilela, Waldeir Amaral
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
2 LAP-INPE-MCT-BR
3 LAP-INPE-MCT-BR
4 LAP-INPE-MCT-BR
5 LAP-INPE-MCT-BR
6 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
RevistaReview of Scientific Instruments
Volume74
Número3 Part 1
Páginas1200-1204
Histórico (UTC)2006-02-21 13:46:32 :: marciana -> administrator ::
2006-11-15 00:27:49 :: administrator -> marciana ::
2008-02-11 15:32:54 :: marciana -> administrator ::
2018-06-06 03:57:14 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-ChavePLASMA
Thomson scattering
Tokamak
ETE
PLASMA
Espalhamento de Thomson
ResumoA 10 J ruby laser Thomson scattering system was implemented on the ETE spherical tokamak to measure the density n(e) and temperature T-e profiles. The laser probes the plasma at the horizontal midplane of the torus and the collection optics allows the observation of up to 22 points inside the plasma in the same plane. Radial profiles of plasma density and electron temperature were obtained for different times during the discharge by shot-to-shot procedure. Temperatures of up to 160 eV and densities of 2.2x10(19) m(-3) were measured. Since the level of stray light was too high, the calibration of the Thomson scattering system for density measurements was made using the nitrogen Raman technique instead of the usually applied Rayleigh method.
ÁreaFISPLASMA
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Thomson scattering system...
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4. Condições de acesso e uso
URL dos dadoshttp://urlib.net/ibi/6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zafAt
URL dos dados zipadoshttp://urlib.net/zip/6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zafAt
Idiomaen
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Grupo de Usuáriosadministrator
marciana
administrator
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentoallowpublisher allowfinaldraft
Permissão de Leituraallow from all
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemarte3.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zafiu
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2003/08.15.14.50   (acesso restrito)
Última Atualização2006:03.07.13.11.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2003/08.15.14.50.44
Última Atualização dos Metadados2018:06.06.03.57.14 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-9883-PRE/5456
ISSN0168-583X
0167-5087
Chave de CitaçãoUedaGomeAbraReut:2003:InNiPI
TítuloIn-line nitrogen PIII/ion nitriding processing of metallic materials
Ano2003
MêsMay
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho148 KiB
2. Contextualização
Autor1 Ueda, Mário
2 Gomes, Geraldo F.
3 Abramof, Eduardo
4 Reuther, H.
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
2 LAS-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
RevistaNuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
Volume206
Páginas749-753
Histórico (UTC)2006-03-07 13:11:46 :: marciana -> administrator ::
2018-06-06 03:57:14 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-Chaveplasma nitriding
plasma immersion ion implantation
X-ray diffraction
AES
ResumoHybrid surface modification involving plasma immersion ion implantation (PIII) and ion nitriding has been attempted. DC cathode nitrogen glow discharges with 600-1000 V, 50-300 ma were typically obtained using the sample support as the cathode and the vacuum chamber as the anode. In this mode, sample temperatures of 500-600 degree 5C can be reached easily while PIII at 10 kV, 50 us and 400 Hz alone can provide about 300 degreesC heating. Combining these two highly conformal treatments and achieving high temperature, high efficiency three dimensional ion implantation is our objective. X-ray diffractions (XRD and high resolution XRD in the glancing mode) showed effects of ion nitriding in the AISI 304 stainless steel samples surface which indicate very thick nitrided layer, especially when operating the glow discharge in the low pressure but with high temperature nitriding mode. Auger electron spectroscopy and microhardness measurements confirmed nitriding in the sample surface. The hybrid treatment (PIII/ion nitriding) is expected to improve further these surfaces.
ÁreaFISPLASMA
Arranjo 1urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > In-line nitrogen PIII/ion...
Arranjo 2urlib.net > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > In-line nitrogen PIII/ion...
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Conteúdo da Pasta sourcenão têm arquivos
Conteúdo da Pasta agreementnão têm arquivos
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo49.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m16.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/ALSpS
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2004/01.15.10.14   (acesso restrito)
Última Atualização2014:05.26.13.22.15 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2004/01.15.10.14.28
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.01.20.45 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-10336-PRE/5837
DOI10.1016/S0925-4005(03)00112-6
ISSN0925-4005
Chave de CitaçãoSilvaTanNasGalJes:2003:UsPlPo
TítuloUse of plasma polymerized highly hydrophobic hexamethyldissilazane (HMDS) films for sensor development
Ano2003
MêsJune
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho190 KiB
2. Contextualização
Autor1 Silva, M. L. P.
2 Tan, Ing Hwie
3 Nascimento Filho, A. P.
4 Galeazzo, E.
5 Jesus, D. P.
Grupo1
2 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Universidade de São Paulo (USP)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Universidade de São Paulo (USP)
4 Universidade de São Paulo (USP)
5 Universidade de São Paulo (USP)
Endereço de e-Mail do Autor1 malu@lsi.usp.br
2 ingtan@plasma.inpe.br
RevistaSensors and Actuators B: Chemical
Volume91
Número1-3
Páginas362-369
Histórico (UTC)2013-02-21 21:06:48 :: administrator -> marciana :: 2003
2013-03-25 11:34:07 :: marciana -> administrator :: 2003
2013-10-15 08:17:17 :: administrator -> marciana :: 2003
2014-05-26 13:22:15 :: marciana -> administrator :: 2003
2018-06-05 01:20:45 :: administrator -> :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chavesilicon
HMDS
plasma
sensor
deposition
ResumoHexamethyldissilazane (HMDS) plasma polymerized films can be used in a wide variety of applications due to the facility on plasma polymerization of HMDS molecule and the high resistance to acid or basic corrosion of the formed film. Nonetheless, the hydrophobic character, as well as the possibility of adsorption of organic molecules, did not receive attention yet. In this work HMDS plasma polymerized films, presenting high organic character, were obtained in order to analyze their properties as sensors for organic compounds in N2 and aqueous solutions. The films showed to be not only highly resistant to corrosion in a wide scan of pH, but also presented high water contact angle (approximately 908). The organic character of the films leads to a high adsorption characteristic for polar and non-polar compounds. The water contact angle measurements vary for 2-propanol aqueous solutions from 908 (0% of 2-propanol) to about 08 (50% of 2-propanol). When HMDS films were deposited on two different substrates, dielectric and porous silicon (PS), two main issues were found. The films suffered degradation by heating and porous silicon was planarized by the plasma deposition, as shown by infrared spectroscopy, optical and Raman microscopy. Deposition on piezoelectric quartz crystal (PQC) showed adsorption of polar and non-polar organic compounds carried by N2 and chloroform aqueous solutions. HMDS films deposited on silicon were electrically characterized showing quickly and reversible response for 2-propanol carried by N2. In saturated environment, the electrical current increases about five times when a range of 5 to 0 V was applied. For n-hexane drops, no reversible electrical characteristics were found. Although some issues were revealed, HMDS highly hydrophobic films showed promising characteristics for sensor development.
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
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Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m16.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/ALSfP
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2004/01.15.10.06   (acesso restrito)
Última Atualização2013:04.15.14.23.40 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2004/01.15.10.06.25
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.01.20.45 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-10337-PRE/5838
DOI10.1016/S0022-3115(02)01488-5
ISSN0022-3115
Chave de CitaçãoNakamuraIUMIITOM:2003:TwDiEd
TítuloTwo-dimensional diagnostics of edge and divertor region of toroidal helical plasmas using a lithium beam probe
Ano2003
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho122 KiB
2. Contextualização
Autor1 Nakamura, K.
2 Iguchi, H.
3 Ueda, Mário
4 Morisaki, T.
5 Isobe, M.
6 Ida, K.
7 Takahashi, C.
8 Okamura, S.
9 Matsuoka, K.
Grupo1
2
3 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 The Graduate University for Advanced Studies, Japan
2 National Institute for Fusion Science, Japan
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 National Institute for Fusion Science, Japan
5 National Institute for Fusion Science, Japan
6 National Institute for Fusion Science, Japan
7 National Institute for Fusion Science, Japan
8 National Institute for Fusion Science, Japan
9 National Institute for Fusion Science, Japan
Endereço de e-Mail do Autor1 nkiichi@nifs.ac.jp
2
3 ueda@plasma.inpe.br
RevistaJournal of Nuclear Materials
Volume313-316
Páginas725-728
Histórico (UTC)2013-03-11 18:39:08 :: administrator -> marciana :: 2003
2013-04-15 14:23:41 :: marciana -> administrator :: 2003
2018-06-05 01:20:45 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveLiBP
two-dimensional diagnostics
divertor region
CHS
ResumoA two-dimensional neutral lithium beam probe has been designed and installed on the Compact Helical System (CHS) to study the edge and separatrix region of l ¼ 2 helical divertor con.guration. A 1020 keV beam with equivalent neutral beam current of 0.1 mA is injected. Light emission from the injected beam by electron impact excitation (LiI/670.8 nm) is collected by an eight-channel detector system using optical band-pass .lters and Avalanche Photodiodes. The injection beam line is mechanically tilted to cover the area two-dimensionally. The total system has been calibrated by injecting the beam into the helium-gas-.lled CHS vacuum chamber. Detailed measurements of twodimensional structure of edge and divertor region are expected to contribute to studies of helical divertor concept and to improve understanding of the role of edge plasmas on core confinement as well.
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo1-s2.0-S0022311502014885-main.pdf
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5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository month nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
atualizar 

1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m16.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/ALR7G
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2004/01.15.09.12   (acesso restrito)
Última Atualização2015:01.20.12.28.56 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2004/01.15.09.12.48
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.01.20.45 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-10341-PRE/5842
ISSN0093-3813
Chave de CitaçãoCastroLeitKost:2003:ExRaMe
TítuloExamining by the Rayleigh–Fourier Method the Cylindrical Waveguide With Axially Rippled Wall
Ano2003
MêsAug.
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho740 KiB
2. Contextualização
Autor1 Castro, Joaquim José Barroso de
2 Leite Neto, Joaquim Paulino
3 Kostov, Konstantin G.
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Department of General Physics, Sofia University
Endereço de e-Mail do Autor1 barroso@plasma.inpe.br
RevistaIEEE Transactions on Plasma Science
Volume31
Número4
Páginas752-764
Histórico (UTC)2015-01-17 22:30:43 :: administrator -> marciana :: 2003
2015-01-20 12:28:57 :: marciana -> administrator :: 2003
2018-06-05 01:20:45 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
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Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chavefusão de plasma
plasma fusion
periodic slow-wave systems
periodic waveguide
space harmonic
ResumoAxially corrugated cylindrical waveguides with wall radius described by Ro(1+ cos 2 z/L), where Ro is the average radius of the periodically rippled wall with period and amplitude , have been largely used as slow-wave structures in highpower microwave generators operating in axisymmetric transverse magnetic (TM) modes. On the basis of a wave formulation whereby the TM eigenmodes are represented by a Fourier-Bessel expansion of space harmonics, this paper investigates the electrodynamic properties of such structures by deriving a dispersion equation through which the relationship between eigenfrequencies and corrugation geometry is explored. Accordingly, it is found that for L/Ro a stopband always exists at any value of ; the condition L/Ro = 1 gives the widest first stopband with the band narrowing as the ratio L/Ro increases. For L/Ro 1 the stopband sharply reduces and becomes vanishingly small when 0.10. Illustrative example of such properties is given on considering a corrugated structure with L/Ro = 1,Ro = 2.2 cm, and = o.1, which yields a stopband of 1.5-GHz width with the central frequency at 8.4 GHz; it is shown that in a ten-period corrugated guide, the attenuation coefficient reaches 165 dB/m, which makes such structures useful as an RF filter or a Bragg reflector. It is also discussed that by varying L/Ro and we can find a variety of mode patterns that arise from the combination of surface and volume modes; this fact can be used for obtaining a particular electromagnetic field configuration to favor energy extraction from a resonant cavity.
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo AlvoExamining by the rayleigh-fourier method the cylindrical waveguide with axially rippled wall.pdf
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5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX; IEEEXplore.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40
6. Notas
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7. Controle da descrição
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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemtc-m16.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/AKRh8
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2004/01.13.15.59   (acesso restrito)
Última Atualização2013:04.05.14.22.05 (UTC) marciana
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2004/01.13.15.59.33
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.01.20.45 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-10340-PRE/5841
ISSN0195-9271
Chave de CitaçãoBarrosoLeit:2003:ElCoMe
TítuloElectrical conductivity measurement through the loaded Q factor of a resonant cavity
Ano2003
MêsJan.
Data de Acesso26 abr. 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho269 KiB
2. Contextualização
Autor1 Barroso, Joaquim José
2 Leite Neto, Joaquim Paulino
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
2 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
RevistaInternational Journal of Infrared and Millimeter Waves
Volume24
Número1
Páginas79-86
Histórico (UTC)2013-03-11 17:29:51 :: administrator -> marciana :: 2003
2013-04-05 14:23:14 :: marciana -> administrator :: 2003
2018-06-05 01:20:45 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chavetecnologia de plasma
plasma technology
electrical conductivity measurement
resonant cavity
quality Q factor
ResumoWe present a method for measuring the electrical conductivity of metallic materials that relies on the ratio of two loaded Q factors, QR/QX, with QR corresponding to a TE011-mode reference cavity made of aluminum, and QX the Q that results upon replacing the aluminum plate with the one fabricated from the material to be examined. Electrical conductivity is mathematically inferred from the ratio QR/QX where the loaded Q factors are measured by using the transmission method. Within a 3.0 percent accuracy, conductivities determined at 8.7 GHz for electrolytic copper (5.6 10^7 S/m) and brass (1.6 10^7 S/m) show to be in good agreement with those reported in the literature.
ÁreaFISPLASMA
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Electrical conductivity measurement...
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Conteúdo da Pasta agreementnão têm arquivos
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo10.1023_A_1021639901483.pdf
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Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft12
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5. Fontes relacionadas
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6. Notas
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