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1 referência encontrada buscando em 17 dentre 17 Arquivos.
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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Siteplutao.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
IdentificadorJ8LNKAN8RW/34BESJS
Repositóriodpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.04.12.37   (acesso restrito)
Última Atualização2014:03.27.13.22.32 (UTC) administrator
Repositório de Metadadosdpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.04.12.37.59
Última Atualização dos Metadados2021:03.05.02.59.31 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE--PRE/
DOI10.1002/pssc.200778307
ISSN1610-1634
Rótulolattes: 7698697775899601 1 OliveiraUeHoOsAb:2008:NoPrPl
Chave de CitaçãoOliveiraUeMoHoOsAb:2008:NoPrPl
TítuloA novel process for plasma immersion ion implantation and deposition with ions from vaporization of solid targets
Ano2008
MêsMar.
Data de Acesso19 abr. 2024
Tipo de Trabalhojournal article
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho316 KiB
2. Contextualização
Autor1 Oliveira, Rogério de Moraes
2 Ueda, Mário
3 Moreno, Beatriz
4 Hoshida, L.
5 Oswald, S.
6 Abramof, E.
Grupo1 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
2 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
3
4
5
6 CPA-CPA-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3
4 Technological Institute of Aeronautics (ITA)
5 Leibnitz Institute for Solid State and Materials Research
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
Endereço de e-Mail do Autor1 rogerio@plasma.inpe.br
2 ueda@plasma.inpe.br
3
4
5
6 eduardo.abramof@inpe.br
Endereço de e-Mailrogerio@plasma.inpe.br
RevistaPhysica Status Solidi C: Conferences and Critical Reviews
Volume5
Número4
Páginas893-896
Histórico (UTC)2008-12-04 16:12:42 :: lattes -> simone ::
2009-01-08 11:58:54 :: simone -> administrator ::
2010-05-12 02:52:21 :: administrator -> simone ::
2010-07-07 18:38:53 :: simone -> banon ::
2012-09-27 18:02:25 :: banon -> administrator :: 2008
2021-03-05 02:59:31 :: administrator -> marciana :: 2008
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-Chave52.77.Dq
61.05.cp
68.55.−
a
78.30.Er
82.80.Pv
plasma immersion
vaporization
ResumoA novel source for plasma immersion ion implantation and deposition (PIII&D) was developed in order to perform surface treatment of materials with ions from vaporization of solid targets. Usually this is obtained by means of beamline ion implanters, in which three dimensional implantation requires target manipulation, or by vacuum arc discharges, in which the presence of macroparticles is the main problem to be overcame. Samples of silicon wafers immersed in a lithium plasma produced by this source were submitted to low negative high frequency pulses (3-4 kV/6 μs/3 kHz), causing lithium implantation and deposition. A very high strain and photoluminescence measured by high resolution X-ray diffraction and Raman spectroscopy, respectively, were observed in the analyzed layers of the samples that were immersed in this plasma. XPS measurements revealed thick Li deposition for samples treated under conditions of high lithium vaporization rate. This novel process was effective for Li implantation/deposition and shows potential for PIII or PIII&D of many different elements from solid targets as Ca, K, Mg and Al.
ÁreaFISPLASMA
Arranjo 1urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > A novel process...
Arranjo 2urlib.net > COGCT > A novel process...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo893_ftp.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
banon
lattes
marciana
simone
Grupo de Leitoresadministrator
marciana
Visibilidadeshown
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
8JMKD3MGPCW/3EUP7JP
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1
Acervo Hospedeirodpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination format isbn lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
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