1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
Site | plutao.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | J8LNKAN8RW/34BESJS |
Repositório | dpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.04.12.37 (acesso restrito) |
Última Atualização | 2014:03.27.13.22.32 (UTC) administrator |
Repositório de Metadados | dpi.inpe.br/plutao@80/2008/12.04.12.37.59 |
Última Atualização dos Metadados | 2021:03.05.02.59.31 (UTC) administrator |
Chave Secundária | INPE--PRE/ |
DOI | 10.1002/pssc.200778307 |
ISSN | 1610-1634 |
Rótulo | lattes: 7698697775899601 1 OliveiraUeHoOsAb:2008:NoPrPl |
Chave de Citação | OliveiraUeMoHoOsAb:2008:NoPrPl |
Título | A novel process for plasma immersion ion implantation and deposition with ions from vaporization of solid targets |
Ano | 2008 |
Mês | Mar. |
Data de Acesso | 19 abr. 2024 |
Tipo de Trabalho | journal article |
Tipo Secundário | PRE PI |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 316 KiB |
|
2. Contextualização | |
Autor | 1 Oliveira, Rogério de Moraes 2 Ueda, Mário 3 Moreno, Beatriz 4 Hoshida, L. 5 Oswald, S. 6 Abramof, E. |
Grupo | 1 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 2 LAP-CTE-INPE-MCT-BR 3 4 5 6 CPA-CPA-INPE-MCT-BR |
Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 3 4 Technological Institute of Aeronautics (ITA) 5 Leibnitz Institute for Solid State and Materials Research 6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Endereço de e-Mail do Autor | 1 rogerio@plasma.inpe.br 2 ueda@plasma.inpe.br 3 4 5 6 eduardo.abramof@inpe.br |
Endereço de e-Mail | rogerio@plasma.inpe.br |
Revista | Physica Status Solidi C: Conferences and Critical Reviews |
Volume | 5 |
Número | 4 |
Páginas | 893-896 |
Histórico (UTC) | 2008-12-04 16:12:42 :: lattes -> simone :: 2009-01-08 11:58:54 :: simone -> administrator :: 2010-05-12 02:52:21 :: administrator -> simone :: 2010-07-07 18:38:53 :: simone -> banon :: 2012-09-27 18:02:25 :: banon -> administrator :: 2008 2021-03-05 02:59:31 :: administrator -> marciana :: 2008 |
|
3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Tipo de Versão | publisher |
Palavras-Chave | 52.77.Dq 61.05.cp 68.55.− a 78.30.Er 82.80.Pv plasma immersion vaporization |
Resumo | A novel source for plasma immersion ion implantation and deposition (PIII&D) was developed in order to perform surface treatment of materials with ions from vaporization of solid targets. Usually this is obtained by means of beamline ion implanters, in which three dimensional implantation requires target manipulation, or by vacuum arc discharges, in which the presence of macroparticles is the main problem to be overcame. Samples of silicon wafers immersed in a lithium plasma produced by this source were submitted to low negative high frequency pulses (3-4 kV/6 μs/3 kHz), causing lithium implantation and deposition. A very high strain and photoluminescence measured by high resolution X-ray diffraction and Raman spectroscopy, respectively, were observed in the analyzed layers of the samples that were immersed in this plasma. XPS measurements revealed thick Li deposition for samples treated under conditions of high lithium vaporization rate. This novel process was effective for Li implantation/deposition and shows potential for PIII or PIII&D of many different elements from solid targets as Ca, K, Mg and Al. |
Área | FISPLASMA |
Arranjo 1 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > A novel process... |
Arranjo 2 | urlib.net > COGCT > A novel process... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
|
4. Condições de acesso e uso | |
Idioma | en |
Arquivo Alvo | 893_ftp.pdf |
Grupo de Usuários | administrator banon lattes marciana simone |
Grupo de Leitores | administrator marciana |
Visibilidade | shown |
Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft |
Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
Permissão de Atualização | não transferida |
|
5. Fontes relacionadas | |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS 8JMKD3MGPCW/3EUP7JP |
Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1 |
Acervo Hospedeiro | dpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01 |
|
6. Notas | |
Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel dissemination format isbn lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url |
|
7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | marciana |
atualizar | |
|