1. Identificação | |
Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
Site | mtc-m16d.sid.inpe.br |
Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
Identificador | 8JMKD3MGP7W/397FKME |
Repositório | sid.inpe.br/mtc-m19/2011/02.18.10.14 (acesso restrito) |
Última Atualização | 2011:02.18.10.21.41 (UTC) administrator |
Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m19/2011/02.18.10.14.54 |
Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.04.35.31 (UTC) administrator |
Chave Secundária | INPE--PRE/ |
DOI | 10.1590/S0103-97332010000300015 |
ISSN | 0103-9733 |
Chave de Citação | TokuPesMacMasMen:2010:InPrPa |
Título | Influence of process parameters on the growth of pure-phase anatase and rutile TiO2 thin films deposited by low temperature reactive magnetron sputtering |
Ano | 2010 |
Mês | Sept. |
Data de Acesso | 20 abr. 2024 |
Tipo Secundário | PRE PN |
Número de Arquivos | 1 |
Tamanho | 599 KiB |
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2. Contextualização | |
Autor | 1 Toku, H 2 Pessoa, R. S 3 Maciel, H. S 4 Massi, M. 5 Mengui, U. A. |
Grupo | 1 2 3 4 5 LAS-CTE-INPE-MCT-BR |
Afiliação | 1 Laboratório de Plasmas e Processos, Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 12228-900 São José dos Campos, SP, Brazil 2 Laboratório de Plasmas e Processos, Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 12228-900 São José dos Campos, SP, Brazil 3 Laboratório de Plasmas e Processos, Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 12228-900 São José dos Campos, SP, Brazil 4 Laboratório de Plasmas e Processos, Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 12228-900 São José dos Campos, SP, Brazil 5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) |
Revista | Brazilian Journal of Physics |
Volume | 408 |
Número | 3 |
Páginas | 340-343 |
Histórico (UTC) | 2011-02-18 10:21:41 :: marciana -> administrator :: 2010 2018-06-05 04:35:31 :: administrator -> marciana :: 2010 |
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3. Conteúdo e estrutura | |
É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
Estágio do Conteúdo | concluido |
Transferível | 1 |
Tipo do Conteúdo | External Contribution |
Palavras-Chave | titanium dioxide magnetron sputtering X-ray diffraction Atomic force microscopy |
Resumo | In this work is investigated the optimal conditions for deposition of pure-phase anatase and rutile thin films prepared at low temperatures (less than 150°C) by reactive dc magnetron sputtering onto well-cleaned p-type Si substrates. For this, the variation of deposition plasma parameters as substrate-to-target distance, total gas pressure, oxygen concentration, and substrate bias were studied and correlated with the characteristics of the deposited films. The XRD analysis indicates the formation of pure rutile phase when the substrate is biased at voltages between - 200 and - 300 V. Pure anatase phase is only attained when the total pressure is higher than 0.7 Pa. Moreover, it's noticeable a strong dependence of surface roughness with parameters studied. |
Área | FISMAT |
Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Influence of process... |
Conteúdo da Pasta doc | acessar |
Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
Conteúdo da Pasta agreement | |
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4. Condições de acesso e uso | |
Idioma | en |
Arquivo Alvo | a15v40n3.pdf |
Grupo de Usuários | administrator marciana |
Visibilidade | shown |
Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft12 |
Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
Permissão de Atualização | não transferida |
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5. Fontes relacionadas | |
Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02.53 |
Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 |
Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; SCIELO. |
Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02 |
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6. Notas | |
Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
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7. Controle da descrição | |
e-Mail (login) | marciana |
atualizar | |
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